第1節 真空蒸着による光学薄膜形成の再現性向上と低パーティクル化
1.真空蒸着による光学薄膜形成の再現性向上
1.1 真空関係
1.2 膜厚計関係
1.3 その他
2.真空蒸着による光学薄膜形成の低パーティクル化
第2節 ロールtoロールにおけるスパッタリング成膜技術
1.スパッタリング装置構成
2.高効率カソードの開発
3.長尺方向のITOシート抵抗安定化検討
第3節 R2R小型真空成膜装置の技術と応用
1.要素技術
1.1 ウェブハンドリング技術
1.2 真空技術
2.開発装置の概要
3.光学薄膜への応用
第4節 電子ビーム蒸着用電子銃について
1.電子銃の特長
2.電子銃の原理
2.1 電子ビーム発生源の原理
2.2 電子ビームの偏向原理
2.3 電子ビームの走査原理
2.4 偏向形電子銃の動作原理
3.電子銃の応用例
第5節 電子ビーム蒸着法による光学薄膜の高精度成膜技術
1.IADプロセス特徴
2.IAD効果よる膜質改善
3.高品質、高生産性共立IAD技術(EPD装置)
第6節 スパッタ法による薄膜化技術の基礎と応用
1.成膜技術としてのスパッタ法
1.1 スパッタ法の原理
1.2 代表的なスパッタ成膜法
1.2.1 直流二極スパッタ法
1.2.2 マグネトロン・スパッタ法
2.スパッタ成膜プロセスの特徴と薄膜化応用
2.1 スパッタ薄膜の機械的な特性
2.2 スパッタ成膜時の基板温度上昇
2.3 機能性材料の薄膜化
第7節 スパッタ成膜過程と膜物性・特性
1.プロセス解析手法
2.スパッタ蒸発過程
3.スパッタ粒子の輸送過程
4.スパッタ粒子の堆積過程
第8節 スパッタリング法による光学多層膜の最適設計・成膜技術
1.大型基板に対するスパッタ成膜技術
1.1 インピーダンス制御による高速成膜
1.2 カソード構造と膜厚分布
2.タッチパネル向け光学多層膜
2.1 反射防止膜
2.2 Invisible-ITO膜
3.小径基板に対する高精密スパッタ成膜技術
3.1 膜厚分布制御、積層膜シフト制御
3.2 膜構造
第9節 RAS方式による光学薄膜の低温成膜技術とその膜特性
1.原理と特徴
2.RAS光学薄膜の特性
2.1 膜厚制御
2.2 プロセスの再現性、安定性
2.3 中間屈折率膜の応用
2.4 基板温度
2.5 RASの応用
第10節 高速低温スパッタリング技術による薄膜構造制御と機能性光学膜への応用
1.高速低温スパッタリング技術
1.1 代表的な成膜技術とその概要
1.2 本技術の特徴と成膜装置
2.薄膜構造と化学アニーリング効果
3.様々な光学薄膜への応用
3.1 酸化チタン光触媒薄膜
3.1.1 2段階ステップ成膜手法の特徴
3.1.2 薄膜構造
3.1.3 光触媒特性
3.2 エレクトロクロミック材料
3.2.1 T2O5固体電解質薄膜
3.2.2 WO3還元発色薄膜
第11節 反応性高速スパッタ法による光学薄膜の作製技術と膜質制御
1.ロータリーカソード技術
2.反応性スパッタとは
2.1 ヒステリシス、遷移領域について
2.2 遷移領域制御
2.3 インピーダンス制御
2.4 プラズマエミッション(PEM)制御
3.光学膜への応用
第12節 メタルモードスパッタリングによる光学膜の成膜技術と膜質制御
1.メタルモードスパッタリング成膜装置
1.1 スパッタリング室の構成・特徴
1.2 反応室におけるプラズマ反応素過程
2.多層膜フィルタの成膜例
2.1 Nb2O5/SiO2多層膜フィルタ
2.2 傾斜屈折率膜フィルタ
2.2.1 中間屈折率膜
2.2.2 フィルター設計
2.2.3 傾斜屈折率膜フィルタ
第13節 直流パルススパッタを用いたSiOxNyから成る光反射防止膜の作製
1.DCパルススパッタリング装置
2.SiOxNy中間屈折率層の形成
3.反射防止膜の作製
第14節 膜厚制御システムによる光学多層膜の成膜技術と条件最適化
1.スパッタ装置に実装した基板直視膜厚計とその応用
1.1 RASスパッタ装置とは
1.2 スパッタTargetのレート変動の例
1.3 現状のRASスパッタ装置での成膜方法(時間制御)
1.4 光学式直視膜厚計を用いた生産
1.5 光学式基板直視膜厚計を搭載する新機能RASスパッタ装置
1.5.1 光学式直視膜厚計とは
1.5.2 in-situ基板直視膜厚計の主な性能と仕様
1.6 膜厚計を用いた成膜例
1.6.1 5層ARの成膜例(直視膜厚計によるレート係数フィードバック制御)
2.IAD蒸着装置に実装した基板直視膜厚計
2.1 IAD蒸着装置に実装した基板直視膜厚計の特徴
2.2 基板直視膜厚計の構成
2.3 基板直視膜厚計の制御方法4)
2.4 膜厚誤差の自己補正について
2.4.1 Non-Turning-Point法について
2.4.2 膜厚傾斜法による構成例
2.4.3 膜厚制御誤差の影響
2.5 直視膜厚計実機成膜例
2.5.1 実験装置
2.5.2 3Cavity42層NBPF実機成膜例
3.結論
3-1 直視膜厚計搭載した新機能RASスパッタ装置
3-2 IAD蒸着装置に実装した基板直視膜厚計の応用
第15節 真空アーク蒸着法による光学薄膜の成膜技術と膜質・膜厚の制御
1.真空アーク蒸着技術
1.1 真空アーク現象と蒸着技術
1.2 フィルタードアーク蒸着法
2.DLC膜の特性
2.1 DLC膜の色
2.2 DLC膜の光学定数
3.成膜技術
3.1 膜質制御
3.2 膜厚分布制御
3.3 膜厚制御
第16節 大気圧プラズマによる単層反射防止膜の低温・高速形成技術
1.VHF励起大気圧プラズマCVD法および装置
2.大気圧VHFプラズマによるSiOxの成膜特性
2.1 SiH4とCO2を用いた成膜
2.2 HMDSOとO2を用いた成膜
第17節 イオンプレーテイング法による光学薄膜の成膜技術・膜質制御
1.イオンプレーテイング法が光学技術分野に応用されるまでの発展経緯
2.イオンプレーティングと他の成膜法との差異
3.光学薄膜に用いられるイオンプレーテイング装置の源流
3.1 ARE(電子線による励起、衝撃)を利用する方法
3.2 HCD(Hollow Cathode Discharge)型電子銃を用いる方法
3.3 高周波励起法
4.光学分野に用いられているイオンプレーティング技術
4.1 HCD法
4.1.1 HCDガンを蒸発源として用いる方法
4.2 ARE法
4.3 高周波励起イオンプレーティング法
4.3.1 高周波励起イオンプレーティング法(rfコイルを用いる方法)
4.3.1.1 有機無機複合材料によるMgF2薄膜の屈折率制御
4.3.1.2 機能性透明導電膜・ITOの低比抵抗化
4.3.2 基板に直設高周波電界を印加する方法
4.4 その他のイオンプレーティング技術による光学薄膜の作成法
4.4.1 アークイオンプレーティング(AIP)を利用する方法
4.4.2 クラスターイオンビーム法を用いるTiO2の成膜法
第18節 イオンアシスト蒸着によるフッ素薄膜の形成と密着性改善
1.蒸着重合による高分子薄膜形成
2.イオンを援用した蒸着法
3. イオンアシスト蒸着によるフッ素系高分子薄膜形成
4.イオン照射エネルギーによる膜物性の制御
5.付着強度
6.光反射防止特性
7.傾斜機能膜の形成
8.結論
第19節 低抵抗ITO膜の形成方法と導電率の向上
1.スパッタ法によるガラス基板上ITO成膜
1.1 スパッタ成膜方法
1.2 ガラス基板上成膜ITOの特性
1.2.1 電気特性および膜構造の膜厚依存
1.2.2 膜厚に伴うキャリア総数
1.2.3 キャリア電子源としての酸素空孔とその生成過程
1.2.4 テンプレートの形成と低い抵抗率(高い導電率)
第20節 プラスチック基板への透明導電性薄膜の成膜技術
1.透明導電膜材料と薄膜作製法
1.1 透明導電膜材料
1.2 透明導電薄膜作製方法
2.プラスチックフィルムへの 透明導電膜作製例と諸特性
2.1 低電圧化マグネトロンスパッタ法によるITO薄膜の作製例
2.2 低エネルギーイオンプレーティングによるITO薄膜
2.3 パルスレーザーディポジション(PLD)法によるITO薄膜
2.4 低温プロセスによるITO薄膜の諸特性と課題
2.5 N‐MHVスパッタ法による低抵抗・結晶化ITO薄膜
2.5.1 N‐MHVスパッタ装置の特徴
2.5.2 低温プロセスITO薄膜の成膜条件と諸特性
2.5.3 ナノ積層化によるITO薄膜の低抵抗化及び結晶化
3.金属合金/誘電体ナノ積層化による低抵抗透明導電膜
3.1 金属/酸化物ナノ積層化透明導電薄膜
3.2 金属/窒化物ナノ積層化透明導電薄膜
3.2.1 AlN/Cu/AlNナノ積層化透明導電膜
3.2.2 AlN/Ag/AlNナノ積層化透明導電膜
4.今後の課題とまとめ
第21節 酸化亜鉛透明導電膜のプラズマ低温合成法
1.研究開発の背景
1.1 TCFの導電性と透過性
1.2 各種材料からのTCF合成
1.3 ICPのパラメータ制御とTCF合成
2.実験装置と方法 2.1 実験装置
2.2 プラズマ発光分光装置
2.3 実験手順
3.実験結果と検討
3.1 プラズマ発光分光
3.2 TCF透過率の波長依存性
3.3 薄膜基礎特性の膜厚依存性とアンドープの確証
3.4 水素添加の効果 と 近赤外透過特性
第22節 ミストCVD法によるZnO系薄膜の成膜と透明導電膜・光学薄膜応用
1.ミストCVD法とは
2.ZnO系薄膜の成膜方法と膜厚コントロール
3.ZnO系薄膜の応用
4.ミストCVD法の各種酸化物薄膜成膜への応用
第23節 金属添加酸化亜鉛透明導電膜スパッタ成膜過程におけるプラズマ支援効果
1.Al添加ZnO透明導電膜とICP支援マグネトロンスパッタ
2.ICP重畳DCマグネトロンスパッタ装置と実験方法
2.1 ICP重畳DCマグネトロンスパッタ(ICP重畳DCMS)装置と成膜方法
2.2 AZO膜の評価方法
2.3 ターゲット・ICPコイル・基板間距離の設定
3.Al添加ZnOのICP支援マグネトロンスパッタ成膜におけるICP-RF電力の効果
3.1 ICP-RF電力の重畳が放電特性に与える効果
3.2 成膜速度のICP RF 電力依存性
3.3 膜抵抗率のICP-RF 電力依存性
3.4 光透過率のICP-RF 電力依存性
3.5 X線回折パターンのICP-RF 電力依存性
3.6 その他のプロセスパラメータへのICP-RF電力などの影響
第24節 TiO2系透明導電膜のスパッタ成膜技術と低抵抗化
1.TiO2系透明導電膜
2.TiO2系透明導電膜のスパッタ成膜技術
2.1 ガラス上へのTNO薄膜の作製手順
2.2 スパッタTNO薄膜の特性
2.3 さらなる低抵抗化と低コストプロセスに向けて
3.低抵抗TNO薄膜の光学的特徴
3.1 GaNとの屈折率マッチング
3.2 近赤外領域における高い透過率
第25節 光学法、X線法によるアモルファスIGZO薄膜の構造・物性解析
1.光電子デバイスにおけるTCOとTOSと光学設計
2.a-IGZOの光学評価と物性
3.分光エリプソメトリーおよびX線反射スペクトル (XRR) の応用
4.a-IGZOの極薄薄膜成長過程への応用
5.a-IGZOの構造緩和その場観察
6.a-IGZO/a-GaOx人工超格子の構造解析と物性
第26節 モスアイ型反射防止膜における微細構造形成と大面積化
1.陽極酸化にもとづく規則ポーラス構造の形成
2.ポーラスアルミナにもとづくモスアイ型反射防止膜
3.突起形状の最適化
4.モスアイ構造の大面積化
第27節 ナノ周期構造による反射防止フィルタの作製技術とその応用
1.SWGの設計
2.SWGの製作
3.光学特性
第28節 塗布法による反射防止膜の作製技術
1.反射防止処理の種類と反射防止の原理
1.1 AG処理
1.2 ARコート
1.3 AR+AGコート
2.塗布法による反射防止膜の作製
3.反射スペクトルシミュレーションによる反射防止膜の設計
第29節 フッ素コーティングによる反射防止膜の形成技術
1.膜形成技術
1.1 膜構成
1.2 膜形成技術
2.フッ素系コーティング膜形成技術
第30節 スピンコート法による光学多層膜の作製技術と膜厚制御
1.スピンコート法による光学多層膜の作製技術と膜厚制御
1.1 スピンコート法による多層膜作製
1.1.1 多層膜作製の条件
1.1.2 膜厚制御法
1.2 受動素子〜レーザーミラー
1.3 能動素子〜光機能素子化
1.3.1 可飽和吸収色素によるマイクロチップレーザーのQスイッチ
1.3.2 蛍光色素による面発光DFB固体色素レーザー
第31節 ナノ粒子の積層技術と反射防止膜の形成
1.単一粒子径の粒子のみを用いて作製した防汚性反射防止ガラス
2.粒子径の異なる粒子を組み合わせて作製した防汚性反射防止ガラス
2.1 粒子径の異なる粒子を混合塗布した防汚性反射防止ガラス
2.2 大径粒子を塗布後、さらに小径粒子を塗布した防汚性反射防止ガラス
3.ラズベリー構造の粒子を用いて作製した防汚性反射防止ガラス
3.1 ラズベリー構造の粒子の作製
3.2 ラズベリー構造の粒子を用いて作製した防汚性反射防止ガラス
3.3 ラズベリー構造の粒子を用いて作製した超撥水防汚性透明反射防止ガラス
第32節 蛍光体層を含む多機能多層光学薄膜の設計と作製
1.蛍光体の薄膜化
2.蛍光体層を含む多機能多層光学薄膜の設計
3.Y2O3:Bi3+,Eu3+/SiO2積層膜の作製と光学特性
4.擬モスアイ構造を有する傾斜型蛍光体薄膜
第33節 プラスチック表面へのガラスコート技術と表面高機能化〜ガスバリア性,ハードコート性,反射防止性〜
1.ガラスコート
1.1 パーヒドロキシポリシラザン
1.2 ポリシラザンのシリカ転化
2.ガラスコートによるガスバリア性付与
2.1 ガスバリア性
2.2 ポリイミドフィルムへのガスバリア性付与
2.2.1 処理条件の影響
2.2.2 加熱・紫外線併用処理による処理温度の低温化
3.ガラスコートによるハードコート性付与
3.1 ハードコート性
3.2 プラスチック表面へのハードコート性付与
3.2.1 スチールウール磨耗
3.2.2 鉛筆硬度
4.ガラスコートによる反射防止成付与
4.1 反射防止性
4.2 ガラスコートのAnti-Reflection技術への応用
4.3 低屈折率ガラスコートの反射防止性能
第34節 ITOナノインク用単分散粒子の液相合成と低抵抗化
1.スパッタ法と塗布法
2.ITOナノインク調製
3.ITOナノ粒子合成プロセス設計
4.ソルボサーマル法ITOナノ粒子合成
5.今後の展望
第35節 光硬化性材料による光学薄膜への機能性付与技術
1.光硬化型学薄膜コーティング材料の基本設計
2.機能性光学薄膜についてについて
2.1 透明ハードコティング材料
2.2 吸収波長コントロール型コーティング材料
2.3 高屈折率薄膜コーティング材料
第36節 プラスチックフィルム上への有機・無機薄膜の作成技術と密着性評価
1.気相反応により形成した透明無機薄膜
2.物理気相蒸着により形成したフッ素系有機薄膜の光学特性
3.物理気相蒸着により形成した透明薄膜の密着性
第37節 ゾル−ゲル法によるプラスチックスへのセラミック薄膜の成膜技術
1.プラスチックス表面にセラミック薄膜を作製するための既存技術
2.ゾル-ゲル焼成膜をプラスチックス表面に転写する技術
2.1 工程の概略
2.2 接着剤を使用した転写
2.3 プラスチック基板表面の溶融による転写
2.4 セラミック膜のパターニング
第38節 ソルボサーマル法によるZnOナノ粒子を用いた薄膜作製とその膜特性
1.ソルボサーマル法によるZnOナノ粒子合成
1.1 ソルボサーマル法とは
1.2 合成法
2.薄膜の作製
2.1 電気泳動堆積法による製膜
2.2 焼成条件
2.3 ZnO膜の特性
第39節 カーボンナノチューブを用いた透明導電膜の作製技術と低抵抗化
1.カーボンナノチューブ
2.カーボンナノチューブ透明導電膜の作製技術
3.カーボンナノチューブ透明導電膜の低抵抗化
3.1 金属型単層カーボンナノチューブを用いた透明導電膜
3.2 カーボンナノチューブ透明導電膜へのキャリアドーピング
第40節 プラズマCVDによるグラフェン透明導電膜の低温・高速形成
1.ニッケル、銅を基材とするグラフェンの熱CVD合成
2.低温合成法の必要性
3.グラフェンのプラズマCVD合成−どのようなプラズマが必要か
4.表面波励起マイクロ波プラズマCVDによるグラフェン合成
5.グラフェンのロールTOロール成膜
6.他のITO代替透明導電膜材料との比較
7.グラフェン透明導電フィルムのロードマップ
第41節 光学薄膜製造のための微小光学部品の洗浄技術
1.光学部品の進展
1.1 信頼性規格
1.2 外観規格
2.光学部品の洗浄に必要な要素技術
2.1 付着物の分析
2.2 洗浄剤の選定
2.3 超音波の選定
2.4 洗浄治具
2.5 乾燥
2.6 環境への対応
3.洗浄システム例
3.1 洗浄システム構成例
3.2 システム構成の注意点
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