半導体微細パターニング

〜限界を超えるポスト光リソグラフィ技術〜

発刊：２０１７年４月　　体　裁：Ｂ５判　４１６頁　　定　価：４０,０００円(税抜）

発行：（株）エヌ・ティー・エス　　販売：（株）技術情報協会　　ＩＳＢＮ：978-4-86043-467-0 C3050

・ 光リソグラフィ技術を超えるポスト光リソグラフィ技術の開発動向を概観する！

・ ポストムーアに向けた光リソグラフィ技術とその最新技術動向を追う！

1 はじめに
2 微細化の指針とその効果 　
3 光リソグラフィ技術の発展とその限界
4 ポスト光リソグラフィ技術と今後の展開

第1章 露光装置 柴�ｱ　祐一
1 光露光装置概要
2 露光装置を構成する技術
3 今後の光露光装置に求められるもの

第2章 エキシマレーザ光源 松永　隆，太田　毅
1 はじめに
2 光リソグラフィにおけるエキシマレーザ光源
3 ArFエキシマレーザの基本技術
4 最新技術動向
5 最新多重露光プロセス対応ArFエキシマレーザ　GT64A
6 おわりに

第3章 超解像技術、位相シフト技術と変形照明技術 渋谷　眞人
1 はじめに 　
2 投影露光装置光学系の基本的構成と結像
3 変形照明技術（斜入射照明法）
4 位相シフトマスク技術

第4章 マスク技術とＳＭＯ技術

第1節 フォトマスク技術 林　直也
1 はじめに
2 フォトマスクの成り立ち
3 フォトマスクの構造
4 フォトマスク製造工程
5 フォトマスクの課題と今後

第2節 SMO (Source Mask Optimization)技術 斉藤　康子
1 SMOとは
2 ASMLのSMO技術
3 フルチップへの適用
4 まとめ

第1章 次世代リソグラフィ技術動向 石原　直
1 次世代リソグラフィ技術とは
2 EUVリソグラフィ技術
3 電子線描画技術
4 ナノインプリント技術 5 DSA (Directed Self-Assembly) 技術

第2章 ＥＵＶリソグラフィ技術

第1節 ＥＵＶ露光装置技術 宮崎　順二
1 はじめに
2 装置概要
3 装置性能
4 将来の高NA EUV露光システム

第2節 EUV干渉露光 渡邊　健夫
1 はじめに
2 EUV干渉露光
3 まとめ

第3節 ＥＵＶ光源技術 溝口　計，斎藤　隆志，山崎　卓
1 はじめに
2 ＥＵＶリソグラフィ
3 高出力ＥＵＶ光源の開発の経緯とコンセプト
4 最近の高出力ＥＵＶ光源開発の進展
5 ＥＵＶ光源パイロットシステムの開発
6 おわりに

第4節 EUVブランクス作製技術 笑喜　勉
1 はじめに
2 ガラス基板材料
3 サブストレート研磨プロセス
4 多層膜
5 吸収体・裏面膜
6 まとめ

第5節 マスク技術 小寺　豊
1 ＥＵＶマスクの構造
2 ＥＵＶマスクの製造工程
3 ＥＵＶマスクの遮光帯
4 ＥＵＶマスクの欠陥
5 ＥＵＶマスクの欠陥検査
6 ＥＵＶマスクの欠陥保証
7 ＥＵＶマスク用ペリクル

第3章 ナノインプリント技術

第1節 量産化に向けたナノインプリント技術 東木　達彦
1 はじめに
2 NAND フラッシュメモリの概要
3 次世代リソグラフィの選択
4 ナノインプリントのアライメント技術とオーバーレイ精度向上
5 欠陥低減とナノディフェクトマネージメント
6 おわりに

第2節 ナノインプリント装置技術 森本　修
1 はじめに
2 ナノインプリント装置開発の歴史
3 半導体ナノインプリント装置の仕組み
4 ナノインプリント装置の性能
5 マスク複製装置
6 ナノインプリント装置の今後

第3節 ナノインプリント・テンプレート技術 法元　盛久
1 テンプレートとは
2 マスターテンプレート技術
3 レプリカテンプレート技術 　
4 まとめ

第4節 ナノインプリントプロセス技術 河野　拓也
1 はじめに
2 NILの概要
3 光ナノインプリントの基本性能
4 光ナノインプリントを成功させるための周辺技術
5 おわりに

第5節 ナノインプリント材料技術 中川　勝
1 はじめに
2 光硬化性液体
3 その他の機能性材料
4 シングルナノ成形に向けた光硬化性液体

第6節 ナノインプリントリソグラフィシミュレーション技術 小林　幸子
1 はじめに
2 樹脂流動シミュレーション
3 UV硬化および離型挙動シミュレーション
4 NILシミュレーションを利用した製造性考慮設計

第4章 電子線描画技術と装置開発

第1節 可変成形ビーム型電子線描画装置 山田　章夫
1 はじめに
2 電子線描画装置のカラム構成と図形転写機能
3 電子線描画装置の描画例
4 おわりに

第2節 マルチビーム型電子線描画装置 中山田　憲昭，山下　浩
1 はじめに
2 開発の目的
3 描画方式の相違点
4 主要開発項目
5 スループット設計
6 描画結果
7 まとめ

第5章 誘導自己組織化(DSA)技術

第1節 DSA技術の概要 永原　誠司
1 はじめに
2 DSA技術に活用されるポリマーの自己組織化
3 DSAプロセスの基本ステップ
4 DSA関連材料
5 DSAのプロセスシミュレーション
6 DSA技術の優位点と課題
7 まとめ

第2節 ラインアンドスペース対応DSA技術 東　司
1 はじめに
2 物理ガイドプロセスと化学ガイドプロセス
3 ハーフピッチ15 nmラインアンドスペース対応DSA技術
4 ハーフピッチ10 nm以細ラインアンドスペース対応DSA技術
5 まとめ

第3節 ホール対応DSA技術 清野　由里子
1 はじめに
2 DSAホールシュリンクプロセス技術
3 DSA適用ビアチェーンの電気的歩留まり検証
4 まとめ

第1章 レジスト材料の開発動向 上野　巧
1 はじめに
2 リソグラフィ・レジストの転換点
3 露光波長の短波長化とレジストの光吸収
4 現像液の変遷
5 レジスト感光機構の変遷およびコントラスト向上
6 解像限界と分子サイズの考察
7 まとめ

第2章 化学増幅型レジスト材料技術

第1節 DUVリソグラフィー用対応フォトレジスト材料技 下畠　孝二
1 はじめに
2 ポジ型化学増幅レジスト−ＫｒＦエキシマレーザー用−
3 ポジ型化学増幅レジスト−ＡｒＦエキシマレーザー用−
4 ArFレジスト ネガ画像形成方式
5 おわりに

第2節 EUVリソグラフィ用フォトレジスト技術 成岡　岳彦，中川　泰志 　
1 はじめに
2 有機ポリマーをマトリクスにした化学増幅型EUVレジスト
3 低分子化合物を用いた化学増幅型EUVレジスト
4 EUVレジストの高感度化に向けた新規プロセス
5 まとめ

第3節 金属含有型レジスト材料技術 鳥海　実
1 初期の金属含有型レジスト
2 EUVリソグラフィー用金属含有型レジストの特徴
3 Cornell University、The University of Queensland、(株)EUVL基盤開発センターの金属含有型レジスト
4 金属含有型レジストとして評価された化合物
5 Oregon State University、Inpria、Interuniversity Microelectronics Centreの金属含有型レジスト
6 その他の金属含有型レジスト
7 金属含有型レジストの高機能化

第1章 マルチパターニングの技術動向 八重樫　英民
1 マルチパターニングの分類と特徴
2 マルチパターニングの解像実証結果と技術課題
3 マルチパターニングの応用技術
4 マルチパターニングに関連した周辺技術
5 まとめ 　

第2章 マルチパターンニングにおけるデポジション技術とエッチング技術 野尻　一男
1 マルチパターニングにおけるデポジション技術とエッチング技術の役割
2 デポジション技術
3 エッチング技術
4 おわりに

第1章 CD-SEM技術 杉本　有俊
1 はじめに
2 CD-SEM計測の対象と目的
3 CD-SEM計測技術の概要
4 Line Edge Roughness（LER）の計測
5 Design Based　Meteorology
6 CD-SEMの高速化が拓く新しいアプリケーション

第2章 スキャトロメトリ（光波散乱計測） 白�ｱ　博公
1 はじめに
2 半導体リソグラフィ技術
3 反射散乱光を利用した測定技術
4 スキャトロメトリ
5 最適化手法
6 スキャトロメトリ解析の実例 　
7 あとがき

第3章 走査型プローブ顕微鏡技術 大田　昌弘
1 はじめに
2 AFMの原理
3 各種SPM手法
4 SPMの特長
5 SPMの応用例
6 まとめ

第4章 X線小角散乱法を用いた寸法および形状計測技術 伊藤　義泰
1 はじめに
2 X線散乱
3 X線小角散乱の測定法
4 測定例
5 まとめと今後の展望 　

第1章 MEMS技術の微細パターニングへの応用
　　江刺　正喜、戸津　健太郎、鈴木　裕輝夫、小島　明、池上　尚克、宮口　裕、越田　信義
1 はじめに
2 EUV光源用フィルタ
3 アクティブマトリックスnc-Si電子源による超並列電子ビーム描画
4 おわりに

第2章 最近の超先端エッチング技術の概要―原子層レベル超低損傷高精度エッチング― 寒川　誠二 　
1 はじめに
2 中性粒子ビーム生成装置
3 22nm世代以降の縦型フィントランジスタへの応用
4 無欠陥ナノ構造の作製とその特性
5 原子層レベル表面化学反応の制御
6 まとめ