【本講座で学べること】
・半導体で用いられるプロセスガスの動向
・半導体プロセスでの流量制御機器アプリケーション
・流量制御への要求と制御系について
・制御系設計および制御パラメーターの最適化について
【講座概要】
近年、半導体の歩留まりや微細化において、半導体プロセスガスの制御が極めて重要となっています。このため、半導体製造プロセスにおいて使用される流量制御機器の性能がますます注目されています。本講座では、半導体プロセスにおける流量制御の要求や課題について解説し、さらに、プロセスで用いられる流量制御機器の技術について理解を深めていただき、先端の半導体製造装置やプロセスの開発につなげることを目指しています。
1.プロセスガス制御の動向と課題
1.1 ガス種・流量の動向
1.2 プロセスガス制御の課題
2.プロセスガス流量制御(質量流量制御)
2.1 MFCの概要と要求
2.2 高速応答の制御技術
2.3 流量の安定化・外乱抑制
2.4 自己診断技術
3.プロセスガス分布制御(流量分岐制御)
3.1 流量分岐制御器の概要と要求
3.2 分岐制御技術について
4.混合ガス制御技術(分圧制御)
4.1 分圧制御の概要と要求
4.2 分圧制御技術について
5.今後の展望
【質疑応答】
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