シリカ 中空粒子 セミナー
        
次世代半導体パッケージの 最新動向とその材料、プロセスの開発
樹脂/フィラー複合材料の界面制御と評価
 
<セミナー No.506225>
【Live配信のみ】 アーカイブ配信はありません

★中空粒子などのシリカ合成法から表面改質、分散・凝集のコントロール技術まで解説します!
シリカナノ粒子の合成と化学修飾による高機能化

■ 講師

和歌山大学 システム工学部 准教授・博士(工学) 中原 佳夫 氏

■ 開催要領
日 時 2025年6月30日(月) 10:30〜16:30
会 場 ZOOMを利用したLive配信 ※会場での講義は行いません
Live配信セミナーの接続確認・受講手順は「こちら」をご確認下さい。
聴講料 1名につき55,000円(消費税込・資料付き)
〔1社2名以上同時申込の場合1名につき49,500円(税込)〕
〔大学、公的機関、医療機関の方には割引制度があります。詳しくは上部の「アカデミック価格」をご覧下さい〕
■ プログラム

【講座趣旨】
 シリカナノ粒子(コロイダルシリカ)とは、二酸化ケイ素から構成される数十?数百 nm の球状粒子のことであり、粒径制御が容易で光学的に透明であり、絶縁性や機械的強度に優れているため、基礎研究から産業界まで広く利用されています。  本講演では、シリカナノ粒子の合成およびその化学修飾(化学吸着および物理吸着)について古典的な手法から最先端の技術まで概説します。 単なる技術の紹介にとどまらず、それら合成(修飾)法の設計指針にまで踏み込んでお話しします。 また、書面上では説明しづらい、講演者が長い年月をかけて習得したシリカナノ粒子の合成(修飾)時の勘所についても、できる限りお伝えします。

1.始めに

2.ナノ粒子の科学
 2.1 シリカナノ粒子の性質
 2.2 ナノ粒子合成の科学 (ラメールのダイヤグラム)
 2.3 ナノ粒子分散の科学(DLVO理論)

3.一般的なシリカナノ粒子の合成法と粒径制御
 3.1 ストーバー法
 3.2 逆ミセル法
 3.3 シード媒介成長法

4.内部に空隙部を有するシリカナノ粒子の合成法
 4.1 メソポーラスシリカナノ粒子
 4.2 ラトル型シリカナノ粒子
 4.3 中空シリカナノ粒子

5.化学吸着によるシリカナノ粒子の機能化
 5.1 ストーバー法(内部修飾)
 5.2 逆ミセル法(内部修飾)
 5.3 シランカップリング剤による修飾 (表面修飾)
 5.4 高分子による修飾(表面修飾)

6.物理吸着によるシリカナノ粒子の機能化
 6.1 ストーバー法(内部修飾)
 6.2 逆ミセル法(内部修飾)
 6.3 シード媒介成長法(表面修飾)
 6.4 高分子による修飾(表面修飾)
 6.5 再沈殿法(表面修飾)

7.終わりに

【質疑応答】

シリカ 中空粒子 分散 セミナー