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【本講座で学べること】
・エアロゾルデポジション法による成膜に関する基礎的な知識
・エアロゾルデポジション法における成膜の特徴や装置構成
・エアロゾルデポジション法における成膜の原理
・エアロゾルデポジション法による膜の結晶配向制御技術
【講座概要】
エアロゾルデポジション(AD)法は、室温にて形成する新規の「焼かない」成膜手法です。セラミックス粒子を基板に衝突させることで、数ミクロンから数十ミクロン程度の厚さとなる原料粒子と同一組成・結晶構造を有する緻密かつ結晶質な膜が形成します。この手法は、粒子の運動エネルギーを利用してセラミックス膜を形成することから、エネルギー消費を大きく抑制する環境に配慮した新規の材料創生法として持続可能な社会の構築に必須のプロセス技術だと考えられます。本講演では、AD法における装置の構成や成膜の特徴、原理について解説するとともに、本手法の用途展開についてご紹介します。
１．エアロゾルデポジション(AD)法による成膜の特徴
1.1 背景
1.2 AD装置の構成
1.3 種々の成膜条件が膜の形成に与える影響
1.3.1 アルミナ粒子での成膜
1.3.2 ジルコニア(YSZ)粒子での成膜
1.3.3 ムライト粒子での成膜
1.3.4 金属粒子での成膜
２．エアロゾルデポジション(AD)法による成膜の原理
2.1 近年提唱されている成膜原理
2.2 シミュレーションによる成膜の理解
2.3 成膜粒子の速度測定手法
2.4 粒子のひずみエネルギーに基づいた成膜の解析
2.5 AD法による結晶配向膜の形成
３．成膜体の特性と用途展開
3.1 粒子配向チタン酸ビスマスAD膜の物性
3.2 AD法による低発塵性部材
3.3 プラスチックへのAD法の適用
3.4 ADアルミナ硬質膜のローラへの適用
3.5 AD膜の耐環境保護膜としての適用の可能性
【質疑応答】
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