２０２６年４月８日(水)　１２：３０〜１６：００


【アーカイブ（録画）配信】
　２０２６年４月１７日まで申込み受付（視聴期間：4/17〜4/27）

【12:30-13:50】

１． 光酸発生剤の種類、特性、選定法と応用　

サンアプロ(株)　研究所　白石 篤志 氏

【講座趣旨】
　　光酸発生剤は、光を照射することにより酸を発生する機能をもつ感光材であり、UV硬化プロセスではエポキシ樹脂などのカチオン重合開始剤として利用されている。本講では、 光酸発生剤の種類や反応、そしてこれを用いるカチオン重合系などの応用例について紹介し、さらに種々の場面での光酸発生剤の選択について解説する。

１．光酸発生剤（PAG）とは
　　1.1 光酸発生剤の種類
　　1.2 光酸発生剤の分解機構

２．酸触媒反応の事例
　　2.1 酸触媒反応の種類
　　2.2 エポキシ樹脂のカチオン重合
　　2.3 脱保護反応

３．光酸発生剤の応用例
　　3.1 カチオン重合の応用例
　　3.2 フォトレジスト

４．光酸発生剤の選定について（オニウム塩型光酸発生剤を中心に）
　　4.1 カチオンの選定
　　4.2 アニオンの選定
　　4.3 法規制の観点による選定　

５．まとめ

【質疑応答】

【14:00-16:00】

２． 光酸発生剤の基礎と先端材料へ

富士フイルム(株)　有機合成化学研究所　主席研究員　博士(理学)　土村 智孝 氏

【習得できる知識】
　 光酸発生剤の種類、光反応機構、利用方法、設計のポイント、最新の研究動向、先端材料への応用例

【講座趣旨】
　 光により高度に反応を制御し、新たな機能を付与するフォトポリマー材料は、幅広い分野に利用され、先端産業において欠かすことのできない光機能性材料である。光により酸を発生する光酸発生剤（PAG）は、その特性を大きく左右するキー素材の一つである。 近年、LEDをはじめとする多様な露光光源の出現や、オフセット印刷用CTP材料、半導体用EUVレジストなど新しいアプリケーションの登場により、高度で多彩な機能を有するPAGが注目されている。 本講座では、これらのPAGの基礎的なケミストリー、設計のポイント、最新の研究動向を紹介すると共に、先端材料へのPAGの応用例について述べる。

1. はじめに

2. フォトポリマー材料

3. 光酸発生剤の基礎
　3.1　光酸発生剤の種類
　3.2 非イオン性光酸発生剤
　3.3 イオン性光酸発生剤
　　3.3.1　カチオン設計
　　3.3.2　光分解機構
　　3.3.3　アニオン設計
　3.4　光酸発生剤を利用した反応例
　3.5 光酸発生剤の最近の研究トピックス

4. 先端材料への応用
　3.1 長波長光を利用する光酸発生剤の設計例
　3.2グラフィックス材料への光酸発生剤の応用例
　3.3 半導体レジスト材料への光酸発生剤の応用例
　　3.3.1　EUVレジストの酸発生機構
　　3.3.2　EUVレジストの光酸発生剤の設計例

5. まとめ

【質疑応答】