半導体製造プロセスにおける機械学習・深層学習(AI)活用セミナー

                  
『先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術』
『半導体パッケージの低CTE化と反り対策』
<セミナー No.610516>
【Live配信のみ】

★制御設計へのAI適用、生成AIによる開発支援、システムへの展開...
  半導体製造へのプロセスデータ、装置データを活用したAI導入の進め方!
★センサーデータからどのように価値を創出するか!


半導体製造プロセスと機械学習・深層学習(AI)の活用


■ 講師
1. MathWorks Japan インダストリーマーケティング部
 インダストリアルオートメーション・マシナリーインダストリマネージャー 遠山 巧 氏
2. 同 アプリケーションエンジニアリング部 プリンシパル・アプリケーションエンジニア 王 暁星 氏
■ 開催要領
日 時

2026年10月29日(木) 13:00〜15:00

会 場

Zoomを利用したLive配信  ※会場での講義は行いません
 セミナーの接続確認・受講手順は「こちら」をご確認下さい。

聴講料

聴講料 1名につき38,500円(消費税込/資料付き)
〔1社2名以上同時申込の場合のみ1名につき33
,000円〕
〔大学、公的機関、医療機関の方には割引制度があります。詳しくは上部の「アカデミック価格」をご覧下さい〕

■ プログラム

【講演趣旨】
半導体製造では、微細化・工程複雑化・品質要求の高まりにより、プロセスデータや装置データを活用したAI導入が重要性を増している。本講演では、半導体製造プロセスにおけるAI・生成AI活用を、制御系設計とセンサーデータ解析の両面から解説する。第一部では、制御設計へのAI適用、生成AIによる開発支援、システム展開を紹介する。第二部では、エッチングプロファイル推定、異常検知・予知保全、プロセス最適化、外観検査などの現場課題を取り上げ、汎用ツールを用いたAI実践例を説明し、課題解決に向けたヒントをお届けする。


【講演項目】
T.制御設計へのAI活用例と生成AI実践

1.はじめに

2.制御系設計におけるAI活用の全体像

3.制御設計へのAI適用

4.生成AIによる開発支援

5.システムへの展開

6.まとめ

【質疑応答】


U.センサーデータへの適用と汎用ツールを用いた実践例

1.はじめに:半導体製造におけるAI活用の全体像

2.機械学習と深層学習(AI)の概要

3.センサーデータから価値を創出するAI活用とMATLAB実践例
 3-1.エッチングプロファイルの推定
 3-2.半導体製造装置の教師なし異常検知・予知保全
 3-3.プロセス最適化
 3-4.外観検査など

4.AIモデルの現場実装

5.まとめ

【質疑応答】