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【講座の趣旨】
シリカガラスは半導体デバイス製造や光通信の材料として広く使われている。製造方法により性質が違うため,用途に応じて使い分けられている。半導体デバイス製造での応用を考える上での基礎となる製造方法と性質の違いについて解説する。
【習得できる知識】
シリカガラスは半導体製造工程でよく使われている材料であるが,その種類,製造方法,性質についてはよく知られているとは言えない。用途別にどのような種類のシリカガラスが適切なのか,今後どのような可能性があるのかを考える基礎となる知識を学ぶ。
1.はじめに
1.1 シリカガラスとは?
1.2 シリカガラスの種類
2.シリカガラスが用いられる半導体製造工程
2.1 半導体製造工程とシリカガラスの使用
2.2 シリカガラスの特徴と用途との関係
2.3 溶融石英ガラスと合成シリカガラスの特徴
3.シリカガラスの種類と製造方法
3.1 溶融シリカガラス
3.1.1 電気溶融法と火炎溶融法
3.1.2 天然粉溶融石英ガラス
3.1.3 合成粉溶融石英ガラス
3.1.4 溶融シリカガラスの原料
3.1.5 不透明溶融石英ガラス
3.2 合成シリカガラス
3.2.1 直接法合成シリカガラス
3.2.2 スート法合成シリカガラス
3.2.3 ゾルゲル法
4.シリカガラスの性質
4.1 製造方法による分光学的性質の違い
4.2 高温での粘度と仮想温度
4.3 紫外線などによるダメージ
4.4 加熱時のOH基の拡散
4.5 シリカガラスの失透
5.まとめ
【質疑応答】
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