|
【講座主旨】
高品位な原薬（API）を安定的に供給するためには、最終工程である「分離・精製プロセス（晶析・ろ過・乾燥）」の厳密な設計と不純物制御が不可欠です。本講演では、プロセス設計の基礎理論から、実際のスケールアップやトラブルシューティングにおける品質確保の考え方までを体系的に解説します。
特に晶析工程においては、過飽和度の制御、過剰な多形転移や包蔵不純物の抑制、粒径分布（PSD）の最適化手法を取り上げます。続くろ過・洗浄工程では、洗浄効率の最大化や残留溶媒・微細不純物の効率的な除去アプローチを詳述。乾燥工程においては、熱分解や不純物の濃縮現象を防ぐ運転条件の設定法に言及します。
さらに、近年のRegulatory Science（規制科学）を踏まえたICH Q11/Q13（連続生産）への対応、Quality
by Design（QbD）に基づくクリティカルプロセスパラメーター（CPP）の設定と管理戦略についても触れ、製造現場で直ちに活用できる実践的なノウハウを提示します。
【講座内容】
１．原薬製造における分離・精製プロセスの基礎と品質リスク
1.1 原薬（API）の品質確保における分離・精製プロセスの役割
1.2 代表的な不純物の分類（プロセス由来不純物・分解生成物・元素不純物等）
1.3 Quality by Design（QbD）に基づいたプロセス理解と管理戦略（Control
Strategy）
1.4 ICH Guideline（Q11, Q3A/B, Q3C/D, Q13）が求める不純物制御の考え方
２．晶析工程における不純物除去と結晶品質の制御
2.1 晶析の基本メカニズム（過飽和度、核発生、結晶成長）と不純物取り込み機構
2.2 目的多形・結晶形の安定晶出と多形転移による不純物抱き込みの防ぎ方
2.3 過飽和度制御・種晶添加（Seeding）による粒径分布（PSD）と純度の同時最適化
2.4 晶析における主なトラブル事例（包蔵・共析）とその対応
３．ろ過・洗浄工程における効率的な不純物排除
3.1 ろ過速度の支配要因とろ過 cake（ケーキ）構造の最適化
3.2 不純物除去効果を高める洗浄（Washing）メカニズムと洗浄液選定
3.3 リンス量・洗浄方法（置換洗浄・リスラリー洗浄）の最適化アプローチ
3.4 ろ過・洗浄工程におけるトラブル（目詰まり、偏流、再溶解）と解決策
４．乾燥工程における品質確保と不純物・残留溶媒対策
4.1 乾燥プロセスの熱・物質移動基礎と不純物濃縮現象
4.2 残留溶媒の低減とICH Q3Cに適合させる運転条件（温度・真空度・時間）の設定
4.3 熱分解・着色・サーマルデグラデーションを防ぐ温度管理手法
4.4 アグロメレーション（凝集）防止とハンドリング性の改善
５．スケールアップ・連続生産とトラブルシューティング
5.1 ラボ検討から実生産装置（スケールアップ）へのプロセス移管時の留意点
5.2 PAT（プロセス解析技術）を活用したインラインモニタリングとインプロセス制御
5.3 晶析・ろ過・乾燥における連続製造（Continuous Manufacturing）の最新動向
5.4 総合質疑応答・現場で発生する不純物トラブルへのQA（Q&A）
（一部、内容に変更がある場合がある）
【質疑応答】
◆◆講師プロフィール◆◆◆
専門分野：医薬品製造および品質管理、プロセス化学
学位： 薬学博士
主な経歴：
1979年4月 塩野義製薬株式会社入社
1994年5月 同 金ヶ崎工場製造管理者、同 製薬研究所
2004年4月〜2011年11月 同 信頼性保証本部GMP統括管理グループ長
2011年12月 塩野義製薬退社
医薬品原薬メーカー エースジャパン取締役
2016年6月 エイドファーマ代表
NPO-QAセンター顧問、CMプラス社 提携コンサルタント、エヌエスファーマシニアコンサルタント
2018年5月から現職
主な研究・業務：
医薬品製造および品質管理、プロセス化学、
品質保証ガイドライン策定、グローバル品質方針策定
国内外GMP規制当局のGMP査察対応、国内外企業のGMP監査（170以上の医薬品製造施設）
GMP関連テーマのセミナー、GMP/QMS監査、執筆活動多数を展開中
（セミナー）
GMP入門編、GMP/GQP省令、GQP/GMP/GDP要員育成、製造・QA・QC要員教育訓練、各種バリデーション、変更逸脱管理・OOS/OOT管理と手順書作成、リスクベースGMP監査・自己点検、GMP文書・記録の管理、治験薬GMP、適切なPQS運用、統計的製品品質照査、DI・DX管理、サプライヤー管理、ICH
Q7,8-10,11,12の解説、医薬品の不純物管理等
|
