第１節 半導体の洗浄の基礎と汚れのメカニズム

第２節 光学材料・部品の洗浄の基礎と汚れのメカニズム

第３節 電子材料・部品の洗浄の基礎と汚れのメカニズム

第４節 ディスプレイ洗浄技術と評価



第２章 洗浄剤の種類・特性と開発

第１節は著作権の都合上、掲載しておりません

第２節 環境動向に対応した洗浄剤の開発と取り組みについて

　１．洗浄剤の動向と課題
　２．代替洗浄剤に対する取り組み
　３．炭化水素系洗浄剤
　４．臭素系不燃性洗浄剤
　５．洗浄度評価方法

第３節 水系洗浄剤の種類と特性

　１．水系洗浄剤
　２．水系洗浄剤の種類
　３．洗浄システム

第４節は著作権の都合上、掲載しておりません

第３章 各種洗浄手法とポイント

第１節 電子材料のドライプロセスによる洗浄とポイント

第２節 光学材料・部品のドライプロセスによる洗浄とポイント

　１．UVオゾンによる洗浄原理
　２．レジスト除去
　３．光学部品の洗浄
　４．有機分子汚染の除去

第３節 ディスプレイのドライプロセスによる洗浄

　１．洗浄プロセス
　２．ドライプロセス

第４節 FPD用ガラス洗浄

　１．洗浄装置における超音波
　２．機能水を用いた洗浄技術
　３．節水型枚葉式超音波洗浄装置

第５節 電子材料･部品におけるウェットプロセスによる洗浄とポイント
　　　　 〜特定のガスを溶解した洗浄用機能水(オゾン水･水素水)について〜

　１．オゾン水
　２．水素水

第６節 光学材料・部品の湿式洗浄による洗浄とポイント

　１．洗浄方法
　２．洗浄プロセス
　３．洗浄設計

第７節 実装基板における洗浄トラブルと対応策

　１．洋白カバーが搭載された基板の洗浄
　２．基板上・金メッキ面の変色・シミ対策
　３．鉛リッチ高融点ハンダを使用した実装基板の洗浄
　４．フリップチップ実装基板洗浄

第８節 航空機における洗浄技術
　１．航空機の機体外部洗浄
　２．機内(客室)のクリーニング
　３．エンジンのクリーニング
　４．ペイントの剥離

第９節は著作権の都合上、掲載しておりません

第１０節 高機能水を用いた洗浄技術
　１．機能水の定義
　２．洗浄目的と機能水の種類
　３．機能水の処理方法

第１１節 精密洗浄用水電解オゾン水製造装置について
　１．オゾンの水中での自己分解
　２．オゾン溶解技術
　３．半導体洗浄用オゾン水の清浄性
　４．オゾン水接触部材
　５．オゾン水濃度測定
　６．運転応答性
　７．排オゾン水処理

第１２節 電解水によるSiウェハの超精密洗浄技術
　１．電解水の生成およびその基本特性
　２．電解水がSiウェハの表面に及ぼす影響
　３．微粒子除去
　４．イオン残さ除去

第１３節 半導体超音波洗浄のポイント
　１．超音波洗浄とは？
　２．半導体洗浄への応用
　３．半導体ウェハ洗浄
　４．半導体ウェハの乾燥

第１４節 CMPプロセスにおける洗浄技術
　１．CMPプロセス
　２．洗浄ターゲットと洗浄レベル
　３．Low−k材料に対するダメージ性評価

第１５節 マイクロバブルによる溶剤レス洗浄技術
　１．マイクロバブルとは
　２．微細気泡による油汚れの除去原理
　３．気泡融合防止剤による微細気泡の高密度化
　４．マイクロバブル洗浄システムとその特徴
　５．具体的な洗浄例

第１６節 排水・廃液処理
　１．洗浄に係る排水処理の変遷
　２．一括処理から分別処理へ
　３．水質負荷(汚濁物質、有害物質)の種類
　４．負荷別の排水･廃液処理方法
　５．排水の再利用、汚泥減量も組み込んだプロセス
　６．有価物の回収
　７．非定常廃液の処理
　８．新しい排水･廃液処理の取り組み


第４章 乾燥プロセスの最適化
　１．工業用洗浄に使われる乾燥原理
　２．乾燥方法
　３．乾燥品質の評価
　４．乾燥に起因する洗浄品質低下


第５章 洗浄後の表面・残存汚れの最適評価方法

第１節 半導体材料･プロセス関連における洗浄後の表面・残存汚れの最適評価手法
　１．粒子汚染計測
　２．無機汚染物計測法
　３．有機汚染物計測法

第２節 電子材料の洗浄後の表面・残存汚れの最適評価手法
　１．水の接触角を利用した簡易定量評価法の確立
　２．水晶振動子マイクロバランス(QCM)システムを用いた水系洗浄プロセスの評価
　３．紫外領域蛍光顕微鏡の開発

第３節 プリント基板の効果的な洗浄技術のための評価技術
　１．プリント配線板における洗浄の目的
　２．洗浄
　３．洗浄性の評価法
　４．電気的特性


第６章は著作権の都合上、掲載しておりません