第１章　反射防止膜の設計

１．はじめに
２．マトリクス計算法
３．設計上の留意点
４．反射防止膜設計法に関する補遺
　４．１．等価膜設計理論に至った背景
　４．２．反射防止膜系への不均質（傾斜）膜の導入
　４．３．偏光解析法(VASE)による不均質（傾斜）膜の解析例
　４．４．ARコンテスト(OIC)で明らかになった諸点
５．おわりに

第２章　反射防止膜材料

第１節　反射防止膜材料に求められる特性
１．はじめに
２．光学特性
３．機械特性
４．上項以外の形成塗膜への要求特性
５．生産性
６．塗工性
７．おわりに

第２節　ゾルーゲル・ハイブリッド材料
１．ゾルーゲル法
２．ゾルーゲル・ハイブリッド技術を応用した屈折率制御
　 （１）低屈折材料
　 （２）有機無機複合化による高屈折材料
　 （３）高屈折酸化物膜の低温形成
３．超低屈折率単層反射防止膜
　 （１）超低屈折率化の手法
　 （２）エアロゲルの適用

第３章　反射防止膜の成膜技術と大面積化・耐擦傷性向上技術

第１節　ドライプロセスによるARコート技術の現状と応用例
１．はじめに
２．反射防止法
３．光学薄膜作製方法と膜材料
４．ARコート技術の適用例
　 ４．１．CRT用反射防止膜
　 ４．２．LCD用反射防止膜
　 ４．３．PDP用反射防止膜
５．まとめ

第２節　真空蒸着法による対擦傷性向上のための成膜条件・最適設計
１．真空蒸着法
　 １．１．真空蒸着装置
　 １．２．電子ビーム蒸着
　 １．３．抵抗加熱蒸着
２．対擦傷性の向上
　 ２．１．成膜条件
　 ２．２．成膜材料
　 ２．３．膜設計

第３節　スパッタリング法による成膜技術およびトラブル対策
１．スパッタリングの原理および装置の基本構成
２．各種スパッタリング方式
３．各方式の利害得失
４．ロールツーロールスパッタの狙いと成膜の特徴
５．トラブル対策
６．今後の課題

第４節　表面波プラズマとCVD応用技術
１．はじめに
２． 表面波プラズマ装置の構成要素
　 ２．１．導波管内の平面波
　 ２．２．スロットアンテナ
　 ２．３．誘電体
３．表面波プラズマの生成
４．表面波プラズマの特性
５．アレイ・スロットアンテナ
６．SWP-CVDによる窒化膜の形成
７．むすび

第５節　Cat-CVD(HW-CVD)法による成膜技術
１．はじめに
２．Cat-CVD法の原理と特徴
３．装置の概要
４．シリコン窒化膜の特性
５．シリコン窒化膜の応用例
６．まとめ

第６節　塗布型反射防止膜の成膜技術と成膜プロセスにおけるトラブル対策
１．塗布型反射防止膜の成膜技術
２．反射防止膜に用いられる材料
３．成膜プロセスにおけるナノ粒子の挙動と膜構造
４．成膜プロセスにおけるトラブルと対策

第７節　ゾル−ゲル法による成膜と成膜プロセスにおけるトラブル対策
１．ゾル−ゲル法による成膜
　 １．１．膜構成
　 １．２．成膜プロセス及びコーティング方法
　 １．３．スピンコーティングでの管理項目
　　 １．３．１．溶液物性
　　 １．３．２．コーティング環境
　　 １．３．３．コーティング条件
２．大面積塗布の課題と対策
　 ２．１．欠点の種類
　 ２．２．異物欠点の発生と対策
　 ２．３．膜厚ムラ欠点の発生と対策
　　 ２．３．１．放射スジ状欠点
　　 ２．３．２．コーナー部分の膜厚ムラ欠点
３．膜強度
　 ３．１．ゾル‐ゲル法により形成される膜の強度
　 ３．２．強度向上策

第４章　反射防止膜における特性および機能付与

第１節　反射防止(AR)フィルム用の防汚膜の設計
１．防汚剤の分子構造と接触角
２．フッ素系シランカップリング剤の分子設計
３．防汚剤の塗布
　 ３．１．膜厚と塗布濃度
　 ３．２．塗布溶媒が塗布特性に与える影響
　 ３．３．塗布速度が塗布特性に与える影響
４．撥水性発現メカニズム
５．表面分析手法 　
　 ５．１．FTIR(フーリエ変換赤外分光) 　
　 ５．２．XPS(X-ray Photoelectron Spectroscopy、X線光電子分光) 　
　 ５．３．AES(Auger Electron Spectroscopy、オージェ電子分光)

第２節 帯電防止機能
１．はじめに
２．導電性高分子の基材への積層及び複合化技術
３．ＰＡＳの高分子バインダーとの複合化
　 ３．１．ＰＡＳについて
　 ３．２．PASの高分子バインダーとの複合化
　 ３．３．PAS/PEs複合体の諸特
　 ３．４．PAS/PEs複合体の導電機構
４．導電性高分子の反射防止膜の帯電防止剤への応用の可能性について

第３節　導電性反射防止膜
１．反射防止膜の設計と反射防止膜構造
２．ディスプレー反射防止膜に求められる特性
３．反射防止膜の構成
　 ３．１．ハードコート層
　 ３．２．高屈折率層
　 ３．３．低屈折率層
４．AR及びLR膜の膜特性

第４節　超低反射特性をもつ反射防止膜
１．はじめに
２．超低反射防止膜の設計
　 ２．１．狭帯域２層設計
　 ２．２．広帯域４層設計
　 ２．３．広帯域８層設計
３．超低反射防止膜の製造方法
４．超低反射防止膜の評価方法
５．超低反射防止膜の測定例
　 ５．１．狭帯域２層設計
　 ５．２．広帯域４層設計
　 ５．３．広帯域８層設計
６．超低反射防止膜の信頼性
７．まとめ

第５節　レーザー損傷性・耐環境性
１．レーザー損傷性
　 １．１．レーザー損傷機構
　　 （１）吸収による損傷
　　 （２）電子雪崩機構による損傷
　　 （３）多光子吸収による損傷
　　 （４）基板表面が影響する損傷
　　 （５）内部定在波電界に起因する損傷
　　 （６）内部応力と付着力に起因する損傷
　 １．２．単層膜
　 １．３．反射防止膜
２．耐環境特性
３．レーザー耐力の使用雰囲気依存性（経時変化）

第５章　反射防止膜の測定・評価および膜の制御

第１節は著作権の都合上、掲載しておりません

第２節　膜厚と膜質の制御
１．膜厚の制御
　 １．１．水晶膜厚制御
　 １．２．光学膜厚制御
２．膜質の制御
　 ２．１．光学用ガラス基板
　 ２．２．樹脂基板
　 ２．３．結晶基板および特殊材質基板

第６章　各分野における反射防止膜の応用事例

第１節　ディスプレイ用大面積反射防止フィルム
１．反射防止フィルム「RealookR（リアルック）」
　 １．１．反射防止層の設計
　 １．２．光学性能
　 １．３．物理性能
　　 １．３．１．表面強度
　　 １．３．２．表面抵抗
　　 １．３．３．防汚性
　 １．４．信頼性
　 １．５．耐薬品性
２．複合化
３．開発品
４．ＡＲ加工製品

第２節　ＰＤＰ用反射防止フィルムの成膜と要求特性
１．はじめに
２．ＰＤＰの構造と光学機能フィルター
３．反射防止機能
４．有機薄膜材料
５．ＡＲフィルム｢アークトップ｣
６．アークトップの表面特性
７．画質向上機能
８．今後の展開

第３節　ＬＣＤ用プラスチック基板への反射防止膜の応用
１．ＬＣＤ用プラスチック基板の詳細
２．光学膜成膜条件
３．デジタルスパッタプロセス詳細
４．ターボデジタルスパッタの特徴
５．光学膜コーティング例

第４節　タッチパネルの光学特性
１．透明タッチパネルの概要
　 １．１．透明タッチパネルの方式
　 １．２．抵抗膜式透明タッチパネルの構造
　 １．３．抵抗膜タッチパネルの動作原理
２．抵抗膜式タッチパネルの光学特性について
　 ２．１．光線透過率
　 ２．２．ヘイズ
　 ２．３．光線反射率
　 ２．４．色相
　 ２．５．グロス
３．反射防止膜を利用した視認性向上
　 ３．１．偏光板を用いた反射防止
　 ３．２．スモークを用いた反射防止
　 ３．３．低反射材料設計について

第５節　光ピックアップにおける反射防止膜の考え方
１．まえがき
２．ピックアップ仕様
３．反射防止膜の効果
４．波長依存性、入射角度依存性
　４．１．波長依存性
　４．２．光学的に接合されている部品での考え方
　４．３．入射角依存性
５．グレーティング
６．樹脂材料の反射防止膜処理
７．受光素子表面への反射防止膜処理
８．光学部品としてのディスク

第６節　カメラレンズへの反射防止コーティング
１．歴史
２．カメラレンズ反射防止コーティングの役割
３．反射防止コーティングの種類と役割
　 ３．１．単層コーティング
　 ３．２．マルチコーティング
４．コーティング材料
５．コーティング手法
６．レンズ・コーティング反射率の評価

第７節　光リソグラフィーにおける反射防止膜技術の動向
１．はじめに
２．光リソグラフィー技術１）の進捗と反射防止膜技術開発の必要性
３．リソグラフィーにおける反射防止膜
４．レジストの薄膜化と多層膜プロセス
５．液浸露光装置6)とレジスト保護膜
６．今後の薄膜技術開発

第８節　光通信用途
１．光通信で使用する光の特徴と反射防止膜の仕様
２．一般的な光通信用モジュールと反射防止膜
３．反射防止膜の設計