■インクジェット方式の種類と特徴
１．インクジェット方式の種類と特徴
1-1．コンティニュアンスタイプ
1-2．ドロップオンデマンドタイプ
1-2-1．圧電方式
1-2-2．サーマル方式
1-2-3．静電方式
２．Epsonヘッドの構造
2-1．MLPタイプの構造
2-2．MLChipsタイプの構造
2-3．SEAJetの構造
３．メニスカス制御技術
3-1．微小インク滴の形成技術
3-2．インク滴変調技術
■第1節 不均一の現れ方、その原因と対策
１．不均一とは
1-1．民生用インクジェットと産業用インクジェットにおける不均一
1-2．不均一の現れ方
1-2-1．画像不均一の例
（１） バンディング
（２） 粒状性悪化
（３） 先鋭性不良
（４） 色再現性不良
（５） 諧調性不良
1-2-2．ドット不均一の例
（１）記録ドット面積の不均一
（２）記録ドット形状の不均一
（３）記録ドット濃度の不均一
（４）着弾精度の不均一
２．不均一の原因
2-1．不均一の原因概要
2-1-1．ノズル方向ばらつき
（１）（狭義の）チャネルばらつき
（２）ヘッドばらつき
2-1-2．走査方向ばらつき
2-2．不均一の原因の原理的解析
2-2-1．集中定数モデル
2-2-2．圧力波モデル
2-2-3．CFD(Computational Fluid Dynamics)モデル
2-3．集中定数モデルを解く
2-3-1．ヘッド
2-3-2．集中定数回路モデル
2-3-3．パラメータの計算
2-3-4．解析式（押打ち）
2-4．集中定数モデル式を使う
2-4-1．基準ヘッド
（１）パラメータ
（２）特性
（３）正規化
2-4-2．ヘッドのパラメータ変化と特性変化
（１）ノズル長さ短
（２）ノズル面積小
（３）供給路長さ短
（４）供給路断面積減少
（５）圧力室幅の縮小
（６）圧力室長さ減少
（７）PZT厚さ減少
（８）振動板厚さ減少
（９）インク粘度減少
（10）インク粘度倍増
（11）インク密度減少
（12）インク音速減少
（13）気泡の存在(30μm)
（14）気泡の存在(50μm)
（15）圧電定数低下
（16）駆動電圧低下
2-4-3．ヘッドのパラメータ変化と特性変化のまとめ
（１）吐出速度の変化
（２）吐出量の変化
（３）ヘッドパラメータ変化のまとめ
2-5．集中定数モデルの展開と注意点
2-5-1．集中定数モデルの展開
（１）駆動波形
（２）周波数応答
（３）クロストーク
2-5-2．集中定数モデルの展開具体例（引打ち）
（１）グラフと式
（２）押打ちと引打ちの比較
2-5-3．集中定数モデルの注意点
（１）大サイズヘッドの誤差増大
（２）モデル簡略化による実際との乖離
（３）吐出速度と飛翔速度のちがい
2-6．速度と吐出量
2-6-1．速度と吐出量の関係
（１）速度
（２）吐出量
（３）固有振動周期と吐出量
（４）メニスカス位置と吐出量
（５）速度と吐出量まとめ
2-6-2．速度と着弾精度
2-7．飛翔図
2-8．経時的なばらつき
2-8-1．ノズル面汚れ
2-8-2．気泡
2-8-3．メニスカスインクの蒸発，凝集
（１）界面凝集
（２）色材濃度変化
2-8-4．昇温
2-8-5．残留振動
2-8-6．クロストーク
2-9．ヘッド，インク以外の要因
2-9-1．環境
2-9-2．装置
2-9-3．静電界の影響
（１）静電ベルトと着弾ずれ
（２）電源の改良
（３）吐出タイミングの変更
2-10．記録ドット面積の不均一
2-10-1．吐出量不均一
2-10-2．拡がりの不均一
（１）インク滴速度
（２）濡れ
（３）浸透
2-11．記録ドット形状の不均一
2-11-1．平面的な不均一
（１）飛行ドロップ形状の不均一
（２）メディア上の拡がり不均一
2-11-2．立体的な不均一
（１）乾燥
（２）モトリング
2-12．記録ドット濃度の不均一
2-12-1．液滴の色材濃度変化
（１）インク溶媒蒸発
（２）顔料凝集，沈降
2-12-2．浸透の不均一
2-12-3．ブリーディング
（１）インクの流動（流体的な移動）
（２）インクの浸透
３．不均一の対策
3-1．ノズル毎のばらつきに対する対策
3-1-1．アクチュエータ，流路のばらつき低減
（１）ロバストな設計
（２）製造ばらつきの低減
3-1-2．ノズルのばらつき低減
（１）ノズル孔形状
（２）ノズル面処理
3-1-3．ノズル面処理の例
3-2．経時的なばらつきに対する対策
3-2-1．気泡
（１）脱気インク
（２）なめらかな流路
（３）気泡トラップ
3-2-2．残留振動
3-2-3．メニスカスインクの蒸発，界面凝集
（１）メニスカス揺動
（２）予備吐出／空打ち
（３）加圧／吸引パージ
（４）キャッピング
3-2-4．ノズル面汚れ
3-3．その他の対策
3-3-1．マルチパス
3-3-2．ヘッド端重ね
3-3-3．チャネル個別駆動（フィードバック）
3-3-4．ヘッド間補正
3-3-5．ヘッドシェイディング補正
■第2節 インクジェット成膜における液滴の挙動
１．インクジェット成膜アプリケーション
1-1．基板上の液滴の広がり
1-1-1．液滴の基板へ衝突
1-1-2液滴の慣性広がり
1-1-3液滴の濡れ広がりと最終形状
1-1-4各応用に対するプロセス設計
（１）有機ELディスプレイのパターン成膜
（２）連続成膜
（３）直接印刷配線
1-2．矩形溝内の液滴の広がり
1-3．液滴の乾燥と膜形状
1-3-1乾燥膜厚の均一性とコーヒーステイン現象
1-3-2蒸発速度分布
1-3-3コーヒーステイン現象モデル
1-3-4コーヒーステイン現象防止方法
■第3節 インクジェット成膜における液滴挙動解析
１．数値シミュレーション
1-1．液滴流動シミュレーションの歩み
1-2．計算例
２．最大広がり径
2-1．衝突条件の影響
2-2．最大広がり径の予測式
■第4節 インクジェット方式による高粘度液滴の吐出評価試験と衝突挙動
１．高粘度液滴の吐出評価試験
1-1．背景
1-2．円筒型圧電素子を用いた液滴吐出装置
1-3．液滴の吐出評価試験
1-3-1．吐出条件の確率
1-3-2．吐出液滴に及ぼすパルス幅の影響
1-3-3．吐出液滴に及ぼすヒーター温度の影響
1-3-4．吐出液滴に及ぼす入力電圧の影響
1-4．工業的な具体例
1-4-1．蛍光体インクの開発
1-4-2．粉砕した蛍光体を用いた発光強度
1-4-3．蛍光体を含んだ液滴の吐出試験結果
２．剛体面に衝突する単一液滴の変形挙動
2-1．背景
2-2．衝突後の変形挙動に及ぼす初期落下水滴径の影響
2-3．液滴の変形挙動に及ぼす液滴物性値の影響
2-4．粉体を含んだ単一液滴の衝突挙動
2-4-1．観察例
2-4-2．無次元数を用いた最大直径比の整理
（１）粉体の影響を考慮しない場合
（２）重回帰分析による整理
（３）粉体の影響を考慮した場合
（４）粉体を考慮した場合の実験式の作成
■第5節は著作権の都合上、掲載しておりません
■第6節 圧電素子によるインク液滴噴射の一次元計算
１．計算モデル
２．運動方程式
2-1．オリフィス内インクの運動方程式
2-2．入口絞り部インクの運動方程式
2-3．圧電素子の運動方程式
2-3-1．固定端部小要素の運動方程式
2-3-2．中央部小要素の運動方程式
2-3-3．振動板部小要素の運動方程式
2-4．連続の式
2-5．運動方程式のまとめ
３．固有振動数
3-1．計算方法
3-2．振動モード
４．運動方程式の解法
５．計算結果
5-1．計算結果
5-2．液滴噴射量並びに液滴速度の便宜的計算
5-3．液滴噴射処理をした計算結果
６．インク噴射の原理
７．各種パラメータの影響
7-1．駆動パルス幅
7-2．インク粘度
7-3．インク表面張力
7-4．インク室体積
８．駆動波形の影響
■第7節 インクジェット液滴の数値シミュレーション法の基礎
１．数値シミュレーション法
1-1．基礎方程式
1-2．方程式の離散化と計算格子
２．シミュレーション例
2-1．境界条件，物性値
2-2．振幅の影響
３．帯電電荷の影響
■第8節 液滴生成過程の数値解析
１．液体ジェットから液滴が生成されるまでの過程とメカニズム
２．軸対称計算モデルとその計算法
３．軸対称計算プログラムに関する説明
■第1節 インクジェット配線技術
１．Printed Electronics
２．インクジェット印刷技術
３．インクジェット法による描画
４．配線層と基板の密着
５．インクジェット印刷技術による微細配線のこれから
■第2節は著作権の都合上、掲載しておりません
■第3節 産業用途から見た各種インク溶剤とインクジェットインクの比較
１．Consumer用から産業用へ向かうインクジェット技術
1-1．Consumerプリンタ の興隆
1-2．高速PODの実用化
1-3．プリント機能を使った産業用途への応用の拡大
1-4．インクジェットの機能を活かした新用途
1-5．インクジェットで作る（Digital Fabrication, Digital
Product)
２．インクジェット技術の特徴
３．インクジェット用インクの種類と特徴
3-1．使用する主成分の溶剤による分類
3-1-1．水性インク
3-1-2．油性インク
3-1-3．溶剤（ソルベント）インク
3-1-4．UVインク
3-2．使用する着色材や溶質による分類
3-2-1．染料インク
3-2-2．顔料インク
3-2-3．機能性インク
3-3．用途や機能による分類
４．広がる産業用途へのインクジェット技術の適用
4-1．産業用途へのインクジェット技術の普及のために何が必要か
4-2．産業用途拡大のために必要となるインク
4-2-1．様々なメディア対応できる様々なインク
4-3．産業用途に必要なＩＪヘッド
4-3-1．広範囲の特性のインクを吐出できるヘッド
4-3-2．幅広いサイズのインクを吐出できるヘッド
4-4．産業用途のために必要な総合技術
4-5．インクジェットインクと印刷インク
4-6．インクジェット技術の現状
4-6-1．プリント可能な細線のレベル
4-7．なぜ産業用途にＵＶインクが適するのか？
4-8．今後の課題
■第4節 ソフト溶液プロセスによるセラミックスのインクジェットパターン技術
１．無機物の成膜およびパターン化はなぜ難しいのか？
２．無機粒子を用いたインクジェット技術の現状
2-1．金属ナノ粒子を用いる低温焼結法
2-2．SiO2コロイドを用いるコーティング法
2-3．BaTiO3、Pb (ZrTi) O3 (PZT) などの微細粒子を用いる焼結法
３．インクジェットを用いたセラミックス膜の直接作製法（ソフト溶液プロセス）の開発
3-1．インクジェット反応法によるセラミックスや半導体の直接パターニング
3-2．インクジェット析出法によるセラミックス膜の直接パターニング
3-3．ソフト溶液プロセスによるダイレクトパターニング法
■第5節 インクジェットインクのレオロジー
１．分散系の粘度挙動
1-1．低濃度非凝集分散系の粘度挙動
1-2．凝集分散系の粘度挙動
２．高分子溶液と分散系の粘弾性挙動
2-1．動的粘弾性の基礎
2-2．高分子希薄溶液の粘弾性
2-3．凝集分散系の粘弾性
2-4．インクの動的粘弾性
３．界面活性剤溶液の表面張力
3-1．動的表面張力の基礎
3-2．インクの動的表面張力
■第6節は著作権の都合上、掲載しておりません
■第7節 インクジェット用UV硬化インクの設計
１．ラジカル重合型ジェットインクの設計
1-1．ラジカル重合型ジェットインクの組成
1-1-1．光重合開始剤
1-1-2．モノマー
1-2．酸素によるラジカル重合阻害
1-3．水溶液型ジェットインク
1-4．溶媒フリー型ジェットインク
２．カチオン重合型ジェットインクの設計
2-1．カチオン重合反応の特徴
2-1-1．光 カチオン重合開始剤
2-1-2．カチオン重合性モノマー
2-2．カチオン重合型ジェットインクの設計例
■第8節 インクジェット印刷による回路形成のための金属ナノ粒子インク
１．安定な金属ナノ粒子インクの創製
1-1．金属ナノ粒子の歴史
1-2．金属ナノ粒子インクの調製
1-3．金属ナノ粒子の特性
２．印刷材料としての金、銀ナノ粒子のインクの応用
３．金属ナノ粒子インクの導電材料としての性能
3-1．銀ナノ粒子インクの導電性特性
3-2．金属ナノ粒子インクによる銅配線パターンの形成
■第1節 インクジェットによる微細配線形成技術
１．LTCC用金属インク
２．グリーンシートへのインクジェット描画
３．インクジェット描画シートの積層・焼成
４．インクジェット印刷配線の特性
５．マイクロビアの必要性
６．厚膜印刷との複合化
■第2節 インクジェット法によるフッ素系パターン化基板を用いた
超微細薄膜作製技術
１．パターン基板の作製
1-1．VUVリソグラフィー
1-2．EBリソグラフィー
２．高分子薄膜の位置選択的製膜
３．高分子薄膜の線幅の限界
４．金属ナノインクによる超微細金属配線
■第3節 インクジェット法による厚膜パターンの作製と
電子部品作製への応用
１．厚膜作製におけるインクジェット技術の特徴
２．樹脂層による表面改質とチタン酸バリウム厚膜作製への応用
2-1．樹脂層による表面改質
2-2．インクジェット法によるチタン酸バリウム厚膜の作製
３. その他、電子部品作製への応用事例
3-1．厚膜抵抗体の作製
3-2．活性化インクを用いた無電解銅めっき配線
3-3．(Ba,Sr)TiO3厚膜の作製
3-4．サーミスタ作製への応用
■第4節 インクジェット技術を用いた有機デバイスの作製
１．IJP法を用いた自己整合有機EL素子
1-1．自己整合プロセスの概略
1-2．ボトムエミッション型自己整合有機EL素子
1-3．トップエミッション型自己整合有機EL素子
1-4．ボトムエミッション形有機EL素子のマルチカラー化
２．IJP法による自己整合有機ダイオード
2-1．IJP法による自己整合有機フォトダイオード
2-2．IJP法による自己整合有機多機能ダイオード
３．IJP法を用いた自己整合ペンタセン有機トランジスタ
3-1．実験
3-2．ペンタセンの溶液化
3-3．トランジスタ特性
■第5節 電界電子放出源作製への応用
１．電界電子放出の原理と電界電子放出型ディスプレイ
２．インクジェット法によるゲート電極付きカーボンブラック電界電子放出源の作製
2-1．作製プロセス
2-2．電子放出特性
■第6節 グレイスケールマスクの作製と３次元微細加工
１．グレイスケールマスク
1-1．HEBSガラスマスク
1-2．ハーフトーンクロムマスク
1-3．写真フィルム
1-4．インクジェット法と縮小露光によるエマルジョングレイスケールマスク
２．露光技術
３．露光プロセスの実例
４．形状の転写
4-1．プラズマエッチング
4-2．基板透過露光法
５．可能性と展望
■第7節 ポジティブ・ダイレクトマスク光造形法
１．ゾル‐ゲル変換型光造形法
２．ダイレクトマスク法による面露光光造形
３．光開始剤のインクジェット描画によるポジティブ・ダイレクトマスク光造形
3-1．光開始剤の浸透と造形の積層厚さ
3-2．光開始剤の浸透と造形の水平解像度
４．ポジティブ・ダイレクトマスクによる複数層一括露光光造形
4-1．積層段差の軽減効果
4-2．造形時間の短縮効果
■第8節は著作権の都合上、掲載しておりません
■第9節 バイオテクノロジーにおけるインクジェットの応用と動向
１．バイオテクノロジー分野における用途
1-1．ピペッターとして
1-2．アレイヤーとして
２．おもな使用法において見られること
2-1．ピペッター・分注機としての使用
2-2．アレイヤーとしての使用
2-3．診断薬製造用装置としての使用
