［１］ タッチパネル用透明導電性フィルムの最新動向
1．透明導電性フィルムについて
1-1．タッチパネル用の透明導電性フィルムについて
2．タッチパネル用の透明導電性フィルム
2-1．抵抗膜方式タッチパネルの透明導電性フィルムについて
2-2.静電容量（投影型）方式タッチパネル用途に使用される透明導電性フィルムについて
3．透明導電性フィルムの表面処理について
3-1．表面処理：透明導電膜
3-2．表面処理：ＨＣ層、アンチニュートンリング層
3-3．表面処理：光学調整層
4．ウェットコーティングによる導電性フィルムについて
4-1．導電性高分子
4-2．抵抗膜方式のタッチパネルとしての組合せ
4-3．電極パターン形成
［２］ タッチパネル用透明導電性フィルムの作製
1.スパッタリング装置の構成
2.作製手順
2-1.デガス工程
2-2.ＩＴＯ膜の作製
2-3.ＩＴＯ膜の評価
3.実験結果ならびに考察
3-1.ＱＭＳイオン電流
3-2.堆積厚み
3-3.電気的特性
3-3-1.キャリヤ密度
3-3-2.Ｈａｌｌ移動度
①移動度変化のメカニズムについて
②Ｏ２流量比が０．０５以下領域での挙動
③粒界ポテンシャル
④Ｘ線回折の測定結果
⑤無機ガラス基板との比較
4.まとめ
［３］ ＩＴＯフィルムの諸特性と高性能化への展望
1.はじめに
2.透明導電膜の光学特性
3.表面抵抗特性
4.まとめ
［４］は著作権の都合上、掲載しておりません
第２節 ＩＴＯ膜加工・プロセス
［１］ 低温プロセスによる高性能ＩＴＯ薄膜形成技術
1.はじめに
2.透明導電膜材料と薄膜作製法
2-1.透明導電膜材料
2-2.透明導電薄膜作製方法
3.低温プロセスによるＩＴＯ薄膜作製例と諸特性
3-1.低電圧化マグネトロンスパッタ法によるＩＴＯ薄膜の作製例
3-2.運動エネルギー制御スパッタリング（ＫＥＣＤ）によるＩＴＯ薄膜
3-3.ＭＨＶスパッタ法によるＩＴＯ薄膜
3-4.低エネルギーイオンプレーティングによるＩＴＯ薄膜
3-5.パルスレーザーディポジション（ＰＬＤ）法によるＩＴＯ薄膜
3-6.低温プロセスによるＩＴＯ薄膜の比較
4.今後の課題とまとめ
［２］ ゾル‐ゲル法によるＩＴＯ透明導電膜の低温形成技術
1.はじめに
2.ゾル‐ゲル法によるＩＴＯ膜の形成
2-1.ゾル‐ゲル法とは
2-2.ＩＴＯ膜の形成
2-2-1.各種出発原料を用いたＩＴＯ膜形成
2-2-2.化学組成の影響
2-2-3.ゾル‐ゲルＩＴＯ膜の微細構造制御
2-3.ゾル‐ゲル法によるＩＴＯ膜の低温形成の可能性
3.光アシストゾル‐ゲル法による透明導電膜の室温形成
3-1.光アシストゾル‐ゲル法とは
3-2.光アシストゾル‐ゲル法によるＩＴＯ膜の室温形成
3-2-1.結晶化挙動
3-2-2.電気特性
3-2-3.微細構造
3-3.プラスチック基板上へのＩＴＯ膜の形成
4.まとめ
［３］ ＩＴＯ透明導電膜のプラスチック基板への付着力向上
～ガラス基板との比較～
1.プラスチック基板とガラス基板
2.ガラス基板洗浄
3.プラスチックフィルムの真空中での挙動
3-1.水分の放出
3-2.オリゴマーの発生
4.プラスチック基板への膜付着力を向上させる工夫
4-1.アンダーコーティング（中間層）
4-2.物理的表面改質
4-2-1.光
4-2-2.電子ビーム，イオンビーム
4-2-3.プラズマ処理
4-2-4.化学的修飾
5.ＩＴＯ透明導電膜の接着性向上
［４］は著作権の都合上、掲載しておりません
第３節 ＩＴＯナノ粒子
［１］ 塗布型透明導電膜における材料設計とその応用技術
1.はじめに
2.透明導電膜の設計
2-1.ナノコンポジット型導電性塗料
2-2.ナノ導電粒子設計
2-3.バインダー設計
2-4.塗料設計とその応用例
3.透明導電膜の高機能化
4.今後の展開
［２］ ＩＴＯナノ粒子ペーストによる透明導電膜形成
1.はじめに
2.ＩＴＯナノ粒子の特長
3.ＩＴＯナノ粒子ペーストによる透明電極の形成
3-1.ＩＴＯナノ粒子ペーストの調製
3-2.ＩＴＯナノ粒子ペーストによる透明導電膜の形成
3-3.ＩＴＯナノ粒子ペーストおよびその焼成条件の最適化
3-4.微細配線パターンの作製
4.まとめ
①粒子径制御可能なＩＴＯナノ粒子の低コスト・大量合成の実現
②有機被覆ＩＴＯナノ粒子による高性能スクリーン印刷用ペーストの調製
③クラックの発生がない緻密で平滑な透明導電膜
④大気雰囲気下焼成で比抵抗2.9×10-3Ωcm、透過率99%、HAZE値2%を実現
⑤スクリーン印刷による微細なパターン形成が可能
［３］ スパッタ法に替わる塗布法ＩＴＯナノインクの実用化の意義
1.はじめに
2.スパッタ法と塗布法
3.ＩＴＯナノインク調製
4.ＩＴＯナノ粒子合成
5.今後の展望
| 第２章 ＩＴＯ代替透明導電膜の材料設計と高機能化のポイント |
第１節 酸化亜鉛・マグネシウム
［１］は著作権の都合上、掲載しておりません
［２］ 低コストに向けたＺｎＯ透明導電膜の塗布法による成膜技術
1.透明導電膜の現状
2.透明導電膜の物性
3.スプレー法によるＺｎＯ膜の作製
3-1.不純物効果
3-2.Ｇａ濃度変化
3-3.Ｉｎ濃度変化
3-4.熱処理効果
4.低温成長
［３］ 新規Ｍｇ透明導電材料の設計と評価
1.はじめに
2.材料設計手法とその結果
第２節 導電性高分子
［１］は著作権の都合上、掲載しておりません
［２］ ゾル‐ゲル法によるＩＴＯ透明導電膜の低温形成技術
1.はじめに
2.ゾル‐ゲル法によるＩＴＯ膜の形成
2-1.ゾル‐ゲル法とは
2-2.ＩＴＯ膜の形成
2-2-1.各種出発原料を用いたＩＴＯ膜形成
2-2-2.化学組成の影響
2-2-3.ゾル‐ゲルＩＴＯ膜の微細構造制御
2-3.ゾル‐ゲル法によるＩＴＯ膜の低温形成の可能性
3.光アシストゾル‐ゲル法による透明導電膜の室温形成
3-1.光アシストゾル‐ゲル法とは
3-2.光アシストゾル‐ゲル法によるＩＴＯ膜の室温形成
3-2-1.結晶化挙動
3-2-2.電気特性
3-2-3.微細構造
3-3.プラスチック基板上へのＩＴＯ膜の形成
4.まとめ
［３］ 高導電性と高透明性を両立させた有機薄膜
1.導電性高分子
2.ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ「一次粒子単層膜」
3.高導電性と高透明性の両立
4.おわりに
［４］ ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳのフィルム・コーティング剤への応用
1.透明導電膜の現状
1-1.ＩＴＯを取り巻く現状
1-2.透明導電性材料
1-3.ＩＴＯフィルムと導電性ポリマーの比較
1-3-1.成膜
1-3-2.特性
1-4.π共役系導電性ポリマー
2.ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ
2-1.ポリチオフェン系導電性ポリマー（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の特性
2-2.ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの導電性の向上
3.透明電極用デナトロン
3-1.代表グレードの特徴
3-2.基材適応性
4.パターニング
4-1.リフトオフ法を応用した方法
4-2.感光性デナトロン
4-3.スクリーンペースト
4-4.まとめ
5.おわりに
［５］ 溶剤可溶型高導電性ポリマーの透明導電膜への応用
1.溶剤可溶型高導電性ポリアニリンの概要
1-1.ポリアニリンの構造
2.ポリアニリンの電導度と構造変化
2-1.ポリアニリンの構造変化と電導度のコントロール
2-2.ポリアニリンフィルムの電導度の温度依存性
2-3.ポリアニリンフィルムの引張試験による構造変化と表面抵抗値の変化
3.まとめ
［６］は著作権の都合上、掲載しておりません
［７］ 腐食反応により創製されるフレキシブル透明導電材料
1.ポリピロール／金属化合物ナノコンポジット
2.ポリカルバゾール／アルミニウム化合物ナノコンポジット
3.ポリカルバゾール／スズ化合物及びガリウム化合物ナノコンポジット
3-1.ナノコンポジット膜の透明度、形態、及び組成
3-2.電気化学用電極としての利用
3-3.電気伝導度
4.ナノコンポジットインク
［８］は著作権の都合上、掲載しておりません
第３節 金属ナノ粒子・ワイヤー
［１］ 銀塩写真技術応用による透明導電膜の高導電性・高透過率の実現
1.序
2.エクスクリアの開発
2-1.フレキシブル透明導電膜へ
2-2.白黒銀塩写真の原理とシールドレックス開発
2-3.透明導電膜への展開
3.エクスクリアの性能と特長
3-1.ニュートラルなグレーの色調
3-2.ごく低抵抗から高抵抗まで自在に設計できる表面抵抗値
3-3.８０％以上の高い全光透過率
3-4.ＲｏｌｌｔｏＲｏｌｌプロセスでの生産可能
3-5.レーザー露光により細線パターンが自在に描画可能
3-6.高い可撓性（折り曲げ性）を実現
4.今後の展開可能性について
・無機＆有機ＥＬ電極
・タッチパネル
・電子ペーパー
・太陽電池
・透明ヒーター
5.最後に
［２］は著作権の都合上、掲載しておりません
［３］ ナノ粒子を使用した透明帯電防止コーティング
1.透明帯電防止コーティング製品の概要
2.塗膜の電気的・光学的特性と導電性ネットワークの形成
3.塗膜表面における導電性ネットワークの形成
4.おわりに
［４］ 導電性銀ナノインク、カーボンナノチューブインクの透明フィルムへの展開
1.導電性ナノ粒子インクとは
1-1.金属ナノ粒子インク
1-2.カーボンナノチューブ（ＣＮＴ）インク
2.バイエル マテリアルサイエンスの導電性ナノ粒子インクについて
2-1.導電性銀ナノインク
2-2.導電性カーボンナノチューブインク
3.透明フィルムやガラスへの展開
第４節 カーボンナノチューブ・グラフェン
［１］は著作権の都合上、掲載しておりません
［２］ グラフェンの可溶化技術と透明導電膜への応用
1.グラフェンの透明導電膜への応用
2.化学的手法を用いたグラファイト単結晶の
単層剥離・可溶化とグラフェン薄膜作製
2-1.グラファイトの酸化と溶液中単層剥離
2-2.酸化グラフェン薄膜の塗布形成
2-3.酸化グラフェン薄膜の還元
2-4.酸化処理を行わないグラファイト単層剥離手法
2-5.真空中加熱における酸化グラフェン，グラフェン薄膜の導電性変化
3.グラフェン透明電極の応用例
3-1.グラフェン透明電極を用いた有機薄膜太陽電池
3-2.グラフェン透明ゲート電極を用いた有機薄膜電界効果トランジスタ（ＦＥＴ）
4.おわりに
第１節 タッチパネル
［１］ タッチパネル用ＩＴＯフィルムの技術動向
1.はじめに
2.タッチパネル用ＩＴＯフィルムの導電特性
2-1.抵抗膜式タッチパネルの導電特性
2-2.静電容量式タッチパネルの導電特性
2-3.周辺回路材料
3.光学的諸特性
3-1.透過率
3-2.表面の反射防止
3-3.干渉縞の抑制方法
3-4.ギラツキ防止
3-5.狭額縁・筆記耐久
3-6.基板
3-7.他表面保護材料
4.静電容量式タッチパネルのその他材料
5.まとめ
［２］ タッチパネルへの透明導電膜の応用
1.概要
2.抵抗膜方式透明タッチパネルの構成，動作原理
2-1.構成
2-2.動作原理
3.アナログ抵抗膜方式タッチパネルにおける透明導電膜の役割
4.アナログ抵抗膜式タッチパネルにおける要求特性と現状
4-1.光学特性（光線透過率・反射率）
4-2.抵抗値
4-3.抵抗値均一性（直線性）
4-4.耐久性
4-5.耐環境特性
5.まとめと今後の動向
［３］ 静電容量式タッチパネルの最新技術
1.静電容量式タッチパネルの分類
1-1.静電タッチセンサに於ける静電容量式タッチパネル
1-2.静電容量式タッチパネルの二大方式
2.静電容量式タッチパネルの構造と検出原理概要
2-1.Surface Capacitive Touch Panel概要
2-2.Projected Capacitive Touch Panel概要
2-3.Projected Capacitive Touch Panelのパネル構成
2-3-1.「iPhone」のタッチパネル
2-3-2.他のＩＴＯエッチング方式タッチパネル
3.静電容量式タッチパネル「Inner Capacitive Touch Panel」
3-1.静電容量式タッチパネル開発の背景
3-2.新静電容量式タッチパネルについて
4.静電容量式タッチパネルの将来の動向
5.おわりに
［４］ ガラス／ガラスタッチパネルの特徴と特性
1.ミクロ技術研究所の事業の背景
2.ガラスを基材としたタッチパネル
2-1.なぜガラスタッチパネルにこだわるのか
2-2.ガラスタッチパネルの利点と欠点
2-2-1.ガラスを採用するメリットについて
①透明電極膜はガラスの上でよく安定する
②モース硬度・ピッカーズ硬度が高く、キズがつきにくい
③熱・湿度に強く、寸法安定性がよい
④ガラス上の高精細パターンエッチングが可能である
2-2-2.ガラスを採用するデメリットについて
①割れる
②曲がらない
③重い
④枚葉生産しか出来ない 3.アナログ抵抗膜式タッチパネル
3-1.アナログ抵抗膜方式の構造
3-2.ミクロ技術研究所の抵抗膜式タッチパネルの特徴
3-2-1.構造比較
3-2-2.ガラス抵抗膜式タッチパネルの透明電極膜について
3-2-3.ガラス抵抗膜式タッチパネルのガラス選定について
3-3.サイズ・用途別
3-3-1.モバイル用途
3-3-2.カーナビゲーション用途
3-3-3.ＰＣ用途
4.デジタル静電容量方式タッチパネル
4-1.デジタル方式静電容量タッチパネルの構造
4-1-1.２電極貼り合わせ方式
4-1-2.片面電極積層方式
5.デザインタッチパネルについて
6.おわりに
第２節 太陽電池
［１］ 太陽電池高性能化に向けた透明導電膜の役割
1.はじめに
2.太陽電池材料と光吸収特性
3.発生したキャリアの収集と取り出し
4.薄膜シリコン系太陽電池
5.結晶シリコン系太陽電池
6.化合物薄膜系太陽電池
7.色素増感系太陽電池
8.有機半導体太陽電池
9.その他
10.まとめ
［２］ 薄膜Ｓｉ太陽電池用透明導電膜ガラス基板
1.太陽電池への期待と市場の可能性
2.Ｓｉ系薄膜太陽電池の構造とガラス基板に要求される特性
3.透明導電膜の現状
3-1.透明導電膜の光学特性
3-2.電子の散乱機構と移動度の向上
3-2-1.ＳｎＯ２：Ｆ
3-2-2.ＺｎＯ系透明導電膜
4.おわりに
［３］ ＣＩＳ系薄膜太陽電池における透明導電膜への要求特性
1.はじめに
2.変換効率向上のためにｎ型ＺｎＯ窓層に対する要求
2-1.ＣＩＳ系光吸収層のバンドギャップ構造への最適化
2-2.ｎ型高抵抗バッファ層材料に対する最適化
2-3.インターコネクト部を有する集積型構造での最適化
2-4.製膜法の量産性の検証
3.まとめ
［４］は著作権の都合上、掲載しておりません
［５］ 有機・色素増感太陽電池に向けた透明導電基板と低コスト化
1.有機系太陽電池の普及の鍵となる透明導電基板
2.透明導電基板に求められる特性
2-1.光線透過率
2-2.シート抵抗
2-3.耐熱・耐化学安定性
3.透明導電膜の種類
4.マイクログリッド型透明導電基板
5.色素増感太陽電池の電極基板開発
6.プラスチック色素増感太陽電池とモジュール
7.電極基板の劣化とセル耐久性向上
8.おわりに
第１節は著作権の都合上、掲載しておりません
第２節 透明導電性材料における用途別評価技術と材料への要求特性
1.透明導電性材料
2.ＩＴＯの使用状況と問題点
3.導電膜の製膜方法
3-1.真空蒸着法
3-2.イオンプレーティング法
3-3.スパッタリング法
4.静電容量型タッチパネル(Projective)用材料
4-1.パターニング材料
5.タッチパネル用途で求められる特性
5-1.電気特性評価
5-1-1.電気特性とは
5-1-2.タッチパネル評価機
5-2.摺動筆記試験
5-2-1.摺動筆記試験とは
5-2-2.タッチパネル摺動・電気特性評価機
5-3.打鍵試験・ＯＮ荷重測定
5-3-1.打鍵試験とは
5-3-2.ＯＮ荷重測定とは
5-3-3.打鍵試験／ＯＮ荷重測定機
5-4.その他の当社評価機の紹介
5-4-1.超高速電気特性試験機
5-4-2.ランダム打鍵試験機
5-4-3.超高荷重打鍵試験／ＯＮ荷重測定機
5-5.静電容量タッチパネルの電気特性
6.おわりに
1.序論
2.種々の透明導電材料
3.用途とＩＴＯ膜質
3-1.ＬＣＤ用
3-2.カラーフィルター(ＣＦ)
3-3.有機ELディスプレイ(ＯＬＥＤ)
3-4.ＰＤＰ用
3-5.タッチパネル
3-6.電子ペーパー
3-7.太陽電池用透明導電膜
3-8.その他
4.ＩＴＯ代替の開発動向
4-1.ナノ粒子･ナノワイヤー
4-2.無機酸化物系
4-3.導電性高分子
4-4.ＣＮＴ(カーボンナノチューブ) 他
