【光学レンズ・フィルム、有機ＥＬ、タッチパネル、太陽電池、ＬＥＤなど最新事例で解説】
光学薄膜の最適設計・成膜技術と
膜厚・膜質・光学特性の制御

【タッチパネル】
・タッチパネルへのＡＲコートと耐指紋性付与
・ＩＴＯ、銀ナノワイヤー透明導電フィルムの成膜と低抵抗化

【太陽電池】
・ガラス基板への透明導電膜の成膜技術
・反射防止膜の最適設計と光学解析
・色素増感太陽電池用透明導電膜の低抵抗化技術

【ＬＥＤ】
・ＬＥＤ実装に向けたＩＴＯ膜厚
・膜質の最適化

【レンズ】
・デジタルカメラ用レンズへの光学薄膜の成膜技術
・ガラス光学部品への紫外線カット付与技術

他にも、自動車用ガラス、光通信、医療機器などを掲載

▼各成膜手法の膜厚・膜質制御と再現性向上について詳解

・真空蒸着
・スパッタリング法（高速低温）
・ロールtoロール
・イオンプレーティング
・イオンアシスト蒸着
・アーク蒸着法
・大気圧プラズマ
・スピンコート法
・ゾル−ゲル法
・グラビアコート
・スプレーコート
・微細凹凸形成

▼光学薄膜への新たな機能性の付与技術

【親水/撥水性】 【防汚性】 【防曇性】 【耐指紋性】 【耐擦傷性】

▼どの分野でも共通するトラブル対策と分析・評価技術を掲載

◎トラブル事例
【応力】【歪み】【クラック】【剥離】の発生要因・メカニズムとその対策

◎分析・評価技術
・応力、密着力の測定と評価方法
・耐摩耗性と密着性評価法
・付着性と付着力の評価
・膜厚分布、膜形状の測定方法
・光学薄膜の反射率の高精度測定

第1節　光学薄膜の設計・成膜のための光学理論

１．光学薄膜の設計と成膜に必要な屈折率
　1.1 屈折率
　1.2 透過・吸収・反射

第2節　光学多層膜の最適設計手法

１．光学多層膜の解析理論
　1.1 入射光，反射光，透過光に関する電磁場の表示
　1.2 強度反射率および強度透過率
　1.3 特性マトリクス
　1.4 多層膜の特性マトリクス
　1.5 多層膜の強度反射率および強度透過率
２．波長分散と吸収
　2.1 波長分散の考慮
　2.2 吸収性の考慮
３．感度解析
４．光学多層膜の設計
　4.1 解析と設計について
　4.2 設計問題と最適化
　4.3 最適化問題と最適化手法
５．勾配法の概要
　(a) 共役勾配法の基本手順
　(b) 初期解の設定
　(c) 評価関数の多峰性
　(d) 探索方向の決定
　(e) 微係数の計算
　(f) 収束判定
　(g) １次元探索
　(h) 評価関数の一例
　(i) 基本構造
６．光学基礎理論および多層膜設計の参考書

第3節　コンピュータによる光学薄膜の最適化設計

１. 最適化設計
　1.1 メリット関数(Merit Function)
　1.2 収束計算法
　1.3 最適化法
２．Needle法による最適化設計
３．バンドパスフィルタの設計
４．設計例
　4.1 可視光反射防止膜
　4.2 バンドパスフィルタ
　4.3 マルチバンドパスフィルタ
　4.4 チャープミラー
　4.5 キューブ型偏光無依存ビームスプリッタ
　4.6 反射型1/４波長板
　4.7 2次の反射帯を除去したミラー
５．コンピュータによる成膜シミュレーションと歩留まり
６．膜材料の光学定数
７．リバースエンジニアリング(Reverse Engineering)

第4節　反射防止膜の最適設計手法

１．単波長反射防止膜
２．２波長反射防止膜
３．広帯域反射防止膜
　3.1 4層λ/4構成広帯域反射防止膜と等価膜広帯域反射防止膜
　3.2 広帯域反射防止膜の角度特性の改善
４．屈折率波長分散と反射率特性
５．モスアイ反射防止膜

第5節　UV・IRカットフィルターの設計手法と成膜技術
１．UV・IRカットフィルター
２．UV・IRカットフィルターの種類
３．光学薄膜によるUV・IRカットフィルター
４．UV・IRカットフィルターの設計
　4.1 多層膜ミラーの基本設計
　4.2 エッジフィルターの基本設計
　4.3 UV・IRカットフィルターの設計
５．UV・IRカットフィルターの成膜
　5.1 UV・IRカットフィルターに求められる基本要素
　5.2 UV・IRカットフィルターの成膜条件

第1節　は著作権の都合上、掲載しておりません 。

第2節　反射防止膜用シリカの表面処理と分散技術
１．反射防止膜の原理
２．反射防止膜の設計
３．低屈折率薄膜を得るには
４．シリカナノ粒子の表面処理
５．シランカップリング剤を用いた表面化学修飾
　5.1 加水分解触媒およびpH
　5.2 処理温度
　5.3 撹拌速度・処理時間
　5.4 シランカップリング剤の種類および添加量
６．反射防止膜に求められる特性

第3節　有機・無機ハイブリッド材料による薄膜形成と光機能への展開

１．薄膜の形成とその応用例
２．反射防止用２層膜の形成
３．高屈折率膜の作製
４．セルパターンの出現
５．フォトリソグラフィーによる光導波路、微細パターンの作製

第4節　化合物太陽電池用ターゲット材料

１．CIGS系太陽電池
　1.1 一般的なCIGS系太陽電池の紹介
　1.2 CIGS膜の作製方法および課題
２．光吸収層用ターゲット作製および成膜例
　2.1 ターゲットの作製
　2.2 CIGS膜の作製例
３．スパッタ法を利用した太陽電池
　3.1 CIGSターゲットを用いた太陽電池の紹介
　3.2 スパッタ法で作製したバッファ層
　3.3 オールスパッタプロセスで作製した太陽電池

第5節　光学ポリマーの屈折率制御・高透明化とエイジング

１. 屈折率制御
　1.1 屈折率と分子構造
　1.2 光学ポリマーの屈折率予測システム
２． 高透明化
　2.1 高透明化のための高次構造制御
　2.2 高透明化のための分子設計
　2.3 光学ポリマーの透明性予測システム
３．光学ポリマーのエイジング
　3.1 エイジングに伴う屈折率変化
　3.2 エイジングに伴う複屈折変化
　3.3 エイジングと透明性

第1節　光学薄膜の高精度高反射率測定

１．高反射率ミラーの必要性と光学特性の保証
２．ミラーの反射率の測定方法
　2.1 一般的な分光光度計の反射率測定法(V-N法、V-W法、相対反射率測定法)
　2.2 レーザーを用いた反射率測定法
３．一般的な分光測定機と多重反射を利用した高精度測定法
　3.1 多重反射を利用した高精度測定法の原理
　3.2 従来のV-N法との測定精度の比較
　3.3 高精度測定を用いた測定例
　　3.3.1 測定例(1)成膜材料・成膜方法による反射率の差異測定
　　3.3.2 測定例(2)層数の違いと反射率の差異測定
　　3.3.3 測定例(3)同一成膜装置による成膜再現性評価

第2節　分光エリプソメトリーによる薄膜の光物性評価

１．エリプソメトリーとは
２．なぜ分光なのか
　2.1 分極によって発生する透過光の遅れ
　2.2 Lorentzモデル
　2.3 誘電関数の周波数依存とそのモデル化
３．分光エリプソメトリーと分光干渉法の比較
４．エリプソメーター
５．スペクトル解析の流れ
　(1) Ψ，Δスペクトル測定
　(2) 光学モデルの構築
　(3) シミュレーション
　(4) パラメーターフィッティング
　(5) 収束結果の評価
６．薄膜評価への応用
　6.1 光学コーティング用高屈折率材料の光学定数決定
　6.2 透明電極の屈折率傾斜膜解析
　6.3 フォトニック結晶用誘電体多層膜

第3節　薄膜の耐摩耗性と密着性評価法

１．耐摩耗性
　1.1 摩耗(Wear)とは
　1.2 耐摩耗性評価法
２．密着評価法
　2.1 密着とは
　　2.1.1 密着と剥離
　　2.1.3 非剥離による評価
　2.2　密着性評価法
　　2.2.1 応力測定
　　2.2.2 エネルギー密度測定
　　2.2.3 力測定
　　2.2.4 その他の測定法

第4節　薄膜の応力・密着力の測定と評価方法

１．薄膜における応力・密着力の基礎知識
２．薄膜の応力測定と評価
　2.1 直接的測定法：X線回折法
　2.2 間接的測定法：ラマン分光法
　2.3 マクロな測定法：基板曲率法
３．密着力の測定と評価

第5節　 薄膜・コーティングの硬さ測定法

１．硬さ試験と関連技術による機械的特性評価
　1.1 硬さ
　1.2 押し込み硬さの定義
　1.3 超微小硬さ試験法(ナノインデンテーション法)
　1.4 荷重−変位曲線の解析法
２．ナノインデンテーション法による薄膜の機械的特性評価
　2.1 塑性硬さの評価
　2.2 弾性定数の評価

第6節　直接式光学膜厚モニターシステム

１．直接式光学膜厚モニターシステム
　1-1 直接式間欠型モニターシステムの構成と特徴
　1-2 直接式多波長型光学膜厚モニターシステム

第7節　光干渉法による膜厚分布・膜形状の測定方法

１．透明厚膜の膜形状測定
　1.1 厚膜対応アルゴリズム(KF法)
　1.2 測定例
　1.3 断層表示
２．透明薄膜の膜形状測定
　2.1 薄膜対応アルゴリズム(NF法)
　2.2 測定例
３．透過干渉法による膜厚分布測定
　3.1 原理
　3.2 測定例
４．膜厚と屈折率の同時測定法
５．干渉色解析法による膜厚分布測定
　5.1 測定原理
　5.2 測定例

第8節　は著作権の都合上、掲載しておりません 。

第9節　ガラス基板のヤケの測定手法と評価技術　〜ヤケがある基板の膜特性〜

１．ヤケの評価
　1.1 ヤケのメカニズム
　1.2 目視検査
　1.3 干渉計による評価
　1.4 AFM測定
　1.5 表面硬度測定
２．ヤケの膜への影響
　2.1 ヤケの膜構造への影響

第10節　薄膜X線の測定技術

１．薄膜試料のX線による測定の基礎
２．実試料の測定事例
　2.1 ITO薄膜の事例　-配向性のない試料の測定
　2.2 ZnO薄膜の事例　-配向性のある試料の測定
　2.3 IZGO薄膜の事例 -X線反射率測定　＝膜厚・密度の評価

第11節　FIB-(S)TEMによる膜厚評価

１．TEMの原理
２．STEMの原理
３．FIBの原理
４．FIB-(S)TEMを用いたプラスティックレンズ上の反射防止膜の評価例の紹介
５．FIB-(S)TEMを用いた有機EL素子の評価例の紹介

第1節　真空蒸着による光学薄膜形成の再現性向上と低パーティクル化

１．真空蒸着による光学薄膜形成の再現性向上
　1.1 真空関係
　1.2 膜厚計関係
　1.3 その他
２．真空蒸着による光学薄膜形成の低パーティクル化

第2節　ロールtoロールにおけるスパッタリング成膜技術

１．スパッタリング装置構成
２．高効率カソードの開発
３．長尺方向のITOシート抵抗安定化検討

第3節　R2R小型真空成膜装置の技術と応用

１．要素技術
　1.1 ウェブハンドリング技術
　1.2 真空技術
２．開発装置の概要
３．光学薄膜への応用

第4節　電子ビーム蒸着用電子銃について

１．電子銃の特長
２．電子銃の原理
　2.1 電子ビーム発生源の原理
　2.2 電子ビームの偏向原理
　2.3 電子ビームの走査原理
　2.4 偏向形電子銃の動作原理
３．電子銃の応用例

第5節　電子ビーム蒸着法による光学薄膜の高精度成膜技術

１．IADプロセス特徴
２．IAD効果よる膜質改善
３．高品質、高生産性共立IAD技術(EPD装置)

第6節　スパッタ法による薄膜化技術の基礎と応用

１．成膜技術としてのスパッタ法
　1.1 スパッタ法の原理
　1.2 代表的なスパッタ成膜法
　　1.2.1 直流二極スパッタ法
　　1.2.2 マグネトロン・スパッタ法
２．スパッタ成膜プロセスの特徴と薄膜化応用
　2.1 スパッタ薄膜の機械的な特性
　2.2 スパッタ成膜時の基板温度上昇
　2.3 機能性材料の薄膜化

第7節　スパッタ成膜過程と膜物性・特性

１．プロセス解析手法
２．スパッタ蒸発過程
３．スパッタ粒子の輸送過程
４．スパッタ粒子の堆積過程

第8節　スパッタリング法による光学多層膜の最適設計・成膜技術

１．大型基板に対するスパッタ成膜技術
　1.1 インピーダンス制御による高速成膜
　1.2 カソード構造と膜厚分布
２．タッチパネル向け光学多層膜
　2.1 反射防止膜
　2.2 Invisible-ITO膜
３．小径基板に対する高精密スパッタ成膜技術
　3.1 膜厚分布制御、積層膜シフト制御
　3.2 膜構造

第9節　RAS方式による光学薄膜の低温成膜技術とその膜特性

１．原理と特徴
２．RAS光学薄膜の特性
　2.1 膜厚制御
　2.2 プロセスの再現性、安定性
　2.3 中間屈折率膜の応用
　2.4 基板温度
　2.5 RASの応用

第10節　高速低温スパッタリング技術による薄膜構造制御と機能性光学膜への応用

１．高速低温スパッタリング技術
　1.1 代表的な成膜技術とその概要
　1.2 本技術の特徴と成膜装置
２．薄膜構造と化学アニーリング効果
３．様々な光学薄膜への応用
　3.1 酸化チタン光触媒薄膜
　　3.1.1 2段階ステップ成膜手法の特徴
　　3.1.2 薄膜構造
　　3.1.3 光触媒特性
　3.2 エレクトロクロミック材料
　　3.2.1 T2O5固体電解質薄膜
　　3.2.2 WO3還元発色薄膜

第11節　反応性高速スパッタ法による光学薄膜の作製技術と膜質制御

１．ロータリーカソード技術
２．反応性スパッタとは
　2.1 ヒステリシス、遷移領域について
　2.2 遷移領域制御
　2.3 インピーダンス制御
　2.4 プラズマエミッション(PEM)制御
３．光学膜への応用

第12節　メタルモードスパッタリングによる光学膜の成膜技術と膜質制御

１．メタルモードスパッタリング成膜装置
　1.1 スパッタリング室の構成・特徴
　1.2 反応室におけるプラズマ反応素過程
２．多層膜フィルタの成膜例
　2.1 Nb2O5/SiO2多層膜フィルタ
　2.2 傾斜屈折率膜フィルタ
　　2.2.1 中間屈折率膜
　　2.2.2 フィルター設計
　　2.2.3 傾斜屈折率膜フィルタ

第13節　直流パルススパッタを用いたSiOxNyから成る光反射防止膜の作製

１．DCパルススパッタリング装置
２．SiOxNy中間屈折率層の形成
３．反射防止膜の作製

第14節　膜厚制御システムによる光学多層膜の成膜技術と条件最適化

１．スパッタ装置に実装した基板直視膜厚計とその応用
　1.1 RASスパッタ装置とは
　1.2 スパッタTargetのレート変動の例
　1.3 現状のRASスパッタ装置での成膜方法(時間制御)
　1.4 光学式直視膜厚計を用いた生産
　1.5 光学式基板直視膜厚計を搭載する新機能RASスパッタ装置
　　1.5.1 光学式直視膜厚計とは
　　1.5.2 in-situ基板直視膜厚計の主な性能と仕様
　1.6 膜厚計を用いた成膜例
　　1.6.1 5層ARの成膜例(直視膜厚計によるレート係数フィードバック制御)
２．IAD蒸着装置に実装した基板直視膜厚計
　2.1 IAD蒸着装置に実装した基板直視膜厚計の特徴
　2.2 基板直視膜厚計の構成
　2.3 基板直視膜厚計の制御方法4)
　2.4　膜厚誤差の自己補正について
　　2.4.1 Non-Turning-Point法について
　　2.4.2 膜厚傾斜法による構成例
　　2.4.3 膜厚制御誤差の影響
　2.5 直視膜厚計実機成膜例
　　2.5.1 実験装置
　　2.5.2 3Cavity42層NBPF実機成膜例
３．結論
　3-1 直視膜厚計搭載した新機能RASスパッタ装置
　3-2 IAD蒸着装置に実装した基板直視膜厚計の応用

第15節　真空アーク蒸着法による光学薄膜の成膜技術と膜質・膜厚の制御

１．真空アーク蒸着技術
　1.1 真空アーク現象と蒸着技術
　1.2 フィルタードアーク蒸着法
２．DLC膜の特性
　2.1 DLC膜の色
　2.2 DLC膜の光学定数
３．成膜技術
　3.1 膜質制御
　3.2 膜厚分布制御
　3.3 膜厚制御

第16節　大気圧プラズマによる単層反射防止膜の低温・高速形成技術

１．VHF励起大気圧プラズマCVD法および装置
２．大気圧VHFプラズマによるSiOxの成膜特性
　2.1 SiH4とCO2を用いた成膜
　2.2 HMDSOとO2を用いた成膜

第17節　イオンプレーテイング法による光学薄膜の成膜技術・膜質制御

１．イオンプレーテイング法が光学技術分野に応用されるまでの発展経緯
２．イオンプレーティングと他の成膜法との差異
３．光学薄膜に用いられるイオンプレーテイング装置の源流
　3.1 ARE(電子線による励起、衝撃)を利用する方法
　3.2 HCD(Hollow Cathode Discharge)型電子銃を用いる方法
　3.3 高周波励起法
４．光学分野に用いられているイオンプレーティング技術
　4.1 HCD法
　　4.1.1 HCDガンを蒸発源として用いる方法
　4.2 ARE法
　4.3 高周波励起イオンプレーティング法
　　4.3.1 高周波励起イオンプレーティング法(rfコイルを用いる方法)
　　　4.3.1.1 有機無機複合材料によるMgF2薄膜の屈折率制御
　　　4.3.1.2 機能性透明導電膜・ITOの低比抵抗化
　　4.3.2 基板に直設高周波電界を印加する方法
　4.4 その他のイオンプレーティング技術による光学薄膜の作成法
　　4.4.1 アークイオンプレーティング(AIP)を利用する方法
　　4.4.2 クラスターイオンビーム法を用いるTiO2の成膜法

第18節　イオンアシスト蒸着によるフッ素薄膜の形成と密着性改善

１．蒸着重合による高分子薄膜形成
２．イオンを援用した蒸着法
３． イオンアシスト蒸着によるフッ素系高分子薄膜形成
４．イオン照射エネルギーによる膜物性の制御
５．付着強度
６．光反射防止特性
７．傾斜機能膜の形成
８．結論

第19節　は著作権の都合上、掲載しておりません 。

第20節　は著作権の都合上、掲載しておりません 。

第21節　酸化亜鉛透明導電膜のプラズマ低温合成法

１．研究開発の背景
　1.1 TCFの導電性と透過性
　1.2 各種材料からのTCF合成
　1.3 ICPのパラメータ制御とTCF合成
２．実験装置と方法 　2.1 実験装置
　2.2 プラズマ発光分光装置
　2.3 実験手順
３．実験結果と検討
　3.1 プラズマ発光分光
　3.2 TCF透過率の波長依存性
　3.3 薄膜基礎特性の膜厚依存性とアンドープの確証
　3.4 水素添加の効果 と 近赤外透過特性

第22節　ミストCVD法によるZnO系薄膜の成膜と透明導電膜・光学薄膜応用

１．ミストCVD法とは
２．ZnO系薄膜の成膜方法と膜厚コントロール
３．ZnO系薄膜の応用
４．ミストCVD法の各種酸化物薄膜成膜への応用

第23節　金属添加酸化亜鉛透明導電膜スパッタ成膜過程におけるプラズマ支援効果

１．Al添加ZnO透明導電膜とICP支援マグネトロンスパッタ
２．ICP重畳DCマグネトロンスパッタ装置と実験方法
　2.1 ICP重畳DCマグネトロンスパッタ(ICP重畳DCMS)装置と成膜方法
　2.2 AZO膜の評価方法
　2.3 ターゲット・ICPコイル・基板間距離の設定
３．Al添加ZnOのICP支援マグネトロンスパッタ成膜におけるICP-RF電力の効果
　3.1 ICP-RF電力の重畳が放電特性に与える効果
　3.2 成膜速度のICP RF 電力依存性
　3.3 膜抵抗率のICP-RF 電力依存性
　3.4 光透過率のICP-RF 電力依存性
　3.5 X線回折パターンのICP-RF 電力依存性
　3.6 その他のプロセスパラメータへのICP-RF電力などの影響

第24節　TiO2系透明導電膜のスパッタ成膜技術と低抵抗化

１．TiO2系透明導電膜
２．TiO2系透明導電膜のスパッタ成膜技術
　2.1 ガラス上へのTNO薄膜の作製手順
　2.2 スパッタTNO薄膜の特性
　2.3 さらなる低抵抗化と低コストプロセスに向けて
３．低抵抗TNO薄膜の光学的特徴
　3.1 GaNとの屈折率マッチング
　3.2 近赤外領域における高い透過率

第25節　光学法、X線法によるアモルファスIGZO薄膜の構造・物性解析

１．光電子デバイスにおけるTCOとTOSと光学設計
２．a-IGZOの光学評価と物性
３．分光エリプソメトリーおよびX線反射スペクトル (XRR) の応用
４．a-IGZOの極薄薄膜成長過程への応用
５．a-IGZOの構造緩和その場観察
６．a-IGZO/a-GaOx人工超格子の構造解析と物性

第26節　モスアイ型反射防止膜における微細構造形成と大面積化

１．陽極酸化にもとづく規則ポーラス構造の形成
２．ポーラスアルミナにもとづくモスアイ型反射防止膜
３．突起形状の最適化
４．モスアイ構造の大面積化

第27節　ナノ周期構造による反射防止フィルタの作製技術とその応用

１．SWGの設計
２．SWGの製作
３．光学特性

第28節　塗布法による反射防止膜の作製技術

１．反射防止処理の種類と反射防止の原理
　1.1 AG処理
　1.2 ARコート
　1.3 AR+AGコート
２．塗布法による反射防止膜の作製
３．反射スペクトルシミュレーションによる反射防止膜の設計

第29節　フッ素コーティングによる反射防止膜の形成技術

１．膜形成技術
　1.1 膜構成
　1.2 膜形成技術
２．フッ素系コーティング膜形成技術

第30節　スピンコート法による光学多層膜の作製技術と膜厚制御

１．スピンコート法による光学多層膜の作製技術と膜厚制御
　1.1 スピンコート法による多層膜作製
　　1.1.1 多層膜作製の条件
　　1.1.2 膜厚制御法
　1.2 受動素子〜レーザーミラー
　1.3 能動素子〜光機能素子化
　　1.3.1 可飽和吸収色素によるマイクロチップレーザーのＱスイッチ
　　1.3.2 蛍光色素による面発光ＤＦＢ固体色素レーザー

第31節　ナノ粒子の積層技術と反射防止膜の形成

１．単一粒子径の粒子のみを用いて作製した防汚性反射防止ガラス
２．粒子径の異なる粒子を組み合わせて作製した防汚性反射防止ガラス
　2.1 粒子径の異なる粒子を混合塗布した防汚性反射防止ガラス
　2.2 大径粒子を塗布後、さらに小径粒子を塗布した防汚性反射防止ガラス
３．ラズベリー構造の粒子を用いて作製した防汚性反射防止ガラス
　3.1 ラズベリー構造の粒子の作製
　3.2 ラズベリー構造の粒子を用いて作製した防汚性反射防止ガラス
　3.3 ラズベリー構造の粒子を用いて作製した超撥水防汚性透明反射防止ガラス

第32節　蛍光体層を含む多機能多層光学薄膜の設計と作製

１．蛍光体の薄膜化
２．蛍光体層を含む多機能多層光学薄膜の設計
３．Y2O3:Bi3+,Eu3+/SiO2積層膜の作製と光学特性
４．擬モスアイ構造を有する傾斜型蛍光体薄膜

第33節　プラスチック表面へのガラスコート技術と表面高機能化〜ガスバリア性，ハードコート性，反射防止性〜

１．ガラスコート
　1.1 パーヒドロキシポリシラザン
　1.2 ポリシラザンのシリカ転化
２．ガラスコートによるガスバリア性付与
　2.1 ガスバリア性
　2.2 ポリイミドフィルムへのガスバリア性付与
　　2.2.1 処理条件の影響
　　2.2.2 加熱・紫外線併用処理による処理温度の低温化
３．ガラスコートによるハードコート性付与
　3.1 ハードコート性
　3.2 プラスチック表面へのハードコート性付与
　　3.2.1 スチールウール磨耗
　　3.2.2 鉛筆硬度
４．ガラスコートによる反射防止成付与
　4.1 反射防止性
　4.2 ガラスコートのAnti-Reflection技術への応用
　4.3 低屈折率ガラスコートの反射防止性能

第34節　ＩＴＯナノインク用単分散粒子の液相合成と低抵抗化

１．スパッタ法と塗布法
２．ITOナノインク調製
３．ITOナノ粒子合成プロセス設計
４．ソルボサーマル法ITOナノ粒子合成
５．今後の展望

第35節　光硬化性材料による光学薄膜への機能性付与技術

１．光硬化型学薄膜コーティング材料の基本設計
２．機能性光学薄膜についてについて
　2.1 透明ハードコティング材料
　2.2 吸収波長コントロール型コーティング材料
　2.3 高屈折率薄膜コーティング材料

第36節　プラスチックフィルム上への有機・無機薄膜の作成技術と密着性評価

１．気相反応により形成した透明無機薄膜
２．物理気相蒸着により形成したフッ素系有機薄膜の光学特性
３．物理気相蒸着により形成した透明薄膜の密着性

第37節　ゾル−ゲル法によるプラスチックスへのセラミック薄膜の成膜技術

１．プラスチックス表面にセラミック薄膜を作製するための既存技術
２．ゾル-ゲル焼成膜をプラスチックス表面に転写する技術
　2.1 工程の概略
　2.2 接着剤を使用した転写
　2.3 プラスチック基板表面の溶融による転写
　2.4 セラミック膜のパターニング

第38節　ソルボサーマル法によるZnOナノ粒子を用いた薄膜作製とその膜特性

１．ソルボサーマル法によるZnOナノ粒子合成
　1.1 ソルボサーマル法とは
　1.2 合成法
２．薄膜の作製
　2.1 電気泳動堆積法による製膜
　2.2 焼成条件
　2.3 ZnO膜の特性

第39節　カーボンナノチューブを用いた透明導電膜の作製技術と低抵抗化

１．カーボンナノチューブ
２．カーボンナノチューブ透明導電膜の作製技術
３．カーボンナノチューブ透明導電膜の低抵抗化
　3.1 金属型単層カーボンナノチューブを用いた透明導電膜
　3.2 カーボンナノチューブ透明導電膜へのキャリアドーピング

第40節　プラズマCVDによるグラフェン透明導電膜の低温・高速形成

１．ニッケル、銅を基材とするグラフェンの熱ＣＶＤ合成
２．低温合成法の必要性
３．グラフェンのプラズマCVD合成−どのようなプラズマが必要か
４．表面波励起マイクロ波プラズマCVDによるグラフェン合成
５．グラフェンのロールTOロール成膜
６．他のITO代替透明導電膜材料との比較
７．グラフェン透明導電フィルムのロードマップ

第41節　光学薄膜製造のための微小光学部品の洗浄技術

１．光学部品の進展
　1.1 信頼性規格
　1.2 外観規格
２．光学部品の洗浄に必要な要素技術
　2.1 付着物の分析
　2.2 洗浄剤の選定
　2.3 超音波の選定
　2.4 洗浄治具
　2.5 乾燥
　2.6 環境への対応
３．洗浄システム例
　3.1 洗浄システム構成例
　3.2 システム構成の注意点

第1節　スパッタリング薄膜における応力発生と薄膜付着力

１．スパッタリング薄膜における応力
　1.1 応力とは何か
　1.2 応力の発生原因
　1.3 スパッタリング薄膜における熱応力と真応力の関係
　1.4 スパッタリング薄膜における応力の実際
２．スパッタリング薄膜における付着力
　2.1 付着力とは何か
　2.2 付着力の実際
　2.3 付着力の向上
　　2.3.1 基板加熱
　　2.3.2 前処理
　　2.3.3 後処理
　　2.3.4 接着中間層の挿入
　　2.3.5 アンカー効果の利用
　2.4 付着性と応力

第2節　薄膜における内部応力，応力・ひずみの発生メカニズム

１．内部応力の膜厚変化
２．内部応力をもたらす機構のいろいろ
３．熱応力と真性内部応力の競合現象

第3節　プラスチック基板への成膜におけるトラブル対策 〜剥離・内部応力・均一成膜

１．プラスチックフィルム
２．付着
３．プラスチック基板への膜付着力を向上させる工夫
　3.1 アンダーコーティング(中間層)
　3.2 物理的表面改質
　　3.2.1 光
　　3.2.2 電子ビーム，イオンビーム
　　3.2.3 プラズマ処理
４．内部応力
５．均一成膜
　5.1 ロールtoロールプロセスの特徴と品質不良の対策
　5.2 原材料(Material)
　5.3 設備(Machine)

第4節　高レーザー損傷耐力を持つ光学薄膜作製のための基板表面処理技術

１．光学材料の表面変質層
２．イオンビームエッチングによる研磨不純物層の除去
３．複合表面処理を用いた表面変質層の除去
４．光学薄膜のレーザー損傷耐性における表面変質層除去の効果

第1節　光学薄膜の膜厚制御技術

１．光学式膜厚計
　1.1 光学式膜厚計の概要　
　1.2 膜厚制御方法
　1.3 光学式膜厚制御方法の問題点
　1.4 モニターガラスの使い方
　　1.4.1 モニターガラス１枚使用例
２．水晶式膜厚計

第1節　反射防止膜の表面とその分析手法

１．AR(Anti reflection)フィルム
２．防汚材料
　2.1 フッ素系シランカップリング材料
　2.2 防汚剤の膜厚と塗布濃度
　2.3 片末端と両末端のシランカップリング剤の摩擦と表面エネルギーへの影響
３．撥水性発現メカニズム
４．指紋付着性能の評価
５．表面分析手法

第2節　フッ素系指紋付着防止剤による反射防止膜への防汚性付与

１．フッ素化合物の防汚機能
２．フッ素系指紋付着防止剤
　2.1 指紋付着防止とは
　2.2 フッ素系指紋付着防止剤の表面特性
　　2.2.1 ガラス用指紋付着防止剤
　　2.2.2 樹脂用指紋付着防止剤
３．反射防止剤
　3.1 反射防止膜材料
　3.2 フッ素系反射防止剤
　3.3 弊社の商品であるオプツール AR-110
４．ディスプレイ用部材への適応

第3節　耐指紋性・防汚性を付与する表面改質技術とその評価

１．機能性コーティング剤について
　1.1 機能性膜成分(シリカ、ウレタン、アクリル、フッ素)の評価
　1.2 機能性塗膜(防汚、指紋防止、防曇、落書き防止、耐食)の評価
　1.3 要求される機能(使用環境・用途、設置場所)の評価
　1.4 耐指紋性、防汚性付与(超撥水機能、超親水機能)の評価
　1.5 汚れ防止機能の持続性(付着防止性、脱落性、スポット防止性)の考え方
２．超撥水コーティングによる表面改質について　・疎水性ナノシリカの特徴とその働き
　2.1 表面観察、汚れはじき、フラクタル形態での防汚効果
　2.2 超撥水での耐候性、油性汚れ対応、耐磨耗での変化
　2.3 使用実例での評価まとめ
３．超親水コーティングによる表面改質について
　3.1 親水化ポリマーの原理とその働き　
　3.2 濡れ性、防曇、親水化機能による防汚効果
　3.3 セルフクリーニングと持続性、外観の変化
　3.4 使用実例での評価まとめ
４．耐指紋、防汚性の評価方法について
　4.1 汚れ予測シミュレーション
　4.2 汚れによる汚染防止評価について
　4.3 汚染防止性の基準化について
　4.4 各種汚染物によるスポット試験
　4.5 汚染物(汗、水性、皮脂、油性、酸、アルカリ、界面活性剤)スポット試験
　4.6 耐久、耐候性(促進試験、暴露試験、実用試験)
　4.7 実使用条件との汚れ具合の相関性、まとめ
５．実際の塗膜での防汚機能の劣化と保証に関する考え方について
　5.1 長期性能維持のための保証について
　5.2 顧客への保証期間の設定方法とその劣化する事実への説明方法について
　5.3 通常の使用条件、使用環境によるモデル事例での紹介について
　5.4 実験室データと現場の長期耐候性との相関性について

第4節　UV硬化型ハードコートによる耐擦傷性付与

１．バイエルとハードコート
２．ハードコートの歴史と現状
３．UV硬化系ハードコートの原料系
　3.1 ウレタンアクリレート
　3.2 デュアル・キュアーとその応用事例
４．UV硬化型塗料及びハードコートの特長・耐擦傷性
　4.1 UV硬化型塗料の特長
　4.2 耐擦傷性・耐摩耗性の向上
５．今後の方向性

第5節　有機-無機ハイブリッドハードコート剤の設計と機能性付与

１．有機-無機ハイブリッドハードコート剤の設計
２．有機-無機ハイブリッドハードコート剤の調製
３．有機-無機ハイブリッドハードコート膜の物性
４．機能性付与
　4.1 柔軟性の付与
　4.2 親水性/疎水性の付与
　4.3 屈折率の制御

第6節　ナノ粒子を用いたハードコート膜の設計と反射防止膜への応用

１．ナノ粒子配合型ハードコート
　1.1　低カーリング型ハードコート
　1.2　アンチブロック型ハードコート
２．反射防止膜の設計
　2.1　低屈折粒子とシミュレーション
　2.2　新しい低屈折率粒子の設計
３．反射防止膜の実用例
　3.1　反射防止膜
　3.2　高機能化(AS性付与)

第7節　超撥水・超親水性薄膜による機能性付与

１．撥水性と親水性
　1.1 表面エネルギーまたは表面張力と接触角
　1.2 臨界表面張力と撥水・親水性向上のための化学的制御
２．超撥水化・超親水化の要件
　2.1 ウェンゼルの表面
　2.2 カッシー‐バクスターの表面
　2.3 超撥水性・超親水性の表面をつくるには
　2.4 フラクタル構造と超撥水・超親水
３．モスアイ構造と超撥水・超親水

第8節　プラスチック・ガラス表面の親水化と防汚・防曇性付与とその評価

１．繊維強化プラスチック(FRP)の表面改質
　1.1 高分子の設計と合成
　1.2 合成高分子によるFRPの表面改質と防汚効果
　1.3 高分子の吸着状態と吸着機構の解析
　1.4 高分子吸着表面の防汚機構解析
２．ガラスの表面改質
　2.1 高分子の設計と合成
　2.2 合成高分子によるガラスの表面改質と防汚-防曇効果

第1節　ディスプレイ用透明酸化物薄膜の成膜技術

１．透明導電膜の成膜方法
　1.1.成膜パラメーター
　　1.1.1 酸素導入量
　　1.1.2 不純物添加量
　　1.1.3 成膜温度
　1.1.4.スパッタ電圧
２．透明導電膜を応用したデバイス
　2.1 H2Oガス添加による効果
　2.2 ITOターゲットへのSi材料微量添加による効果

第2節　タッチパネル用透明導電フィルムの要求特性と製膜技術

１．タッチパネルに於ける導電フィルムの技術動向
　1.1 主電極材―ITO膜−
　1.2 ITO代替
２．タッチパネル用その他導電材料など
３．透明導電材料の製膜法
４．スパッター法によるITOフイルムの成膜法
５.今後の技術動向
　5.1 フィルム基板投影型タッチパネルのROLL to Roll生産方式

第3節　タッチパネル用ITO膜の成膜技術と低抵抗化

１．タッチパネル用ITO膜の概要
　1.1 静電容量式タッチパネル用ITO膜
　　1.1.1 パターン視認抑制
　　1.1.2 ノイズ対策
　1.2 抵抗膜式タッチパネル用ITO膜
　　1.2.1 パネルのタッチ機能向上
　1.2.2 透過率向上
２．ITO膜の成膜技術
　2.1 ITO膜の成膜方法
　　2.1.1 真空蒸着法
　　2.1.2 イオンプレーティング法
　　2.1.3 スパッタリング法
　2.2 ITO膜の加工方式
３．ITO膜の低抵抗化
　3.1 低抵抗ITO膜の開発
　3.2 低抵抗ITO膜の評価結果
　　3.2.1 電気的特性
　　3.2.2 分光透過率
　　3.2.3 X線回折パターン

第4節　銀ナノワイヤーを用いた透明導電フィルムの成膜技術と膜厚制御

１．透明導電材料について
２．透明導電性フィルムの特性と応用
３．銀ナノワイヤーを用いた透明導電フィルムの構造と特性
　3.1 層構成
　3.2 各層の機能
４．銀ナノワイヤーフィルムでの膜厚制御の必要性
５．今後の展開

第5節　有機ＥＬ用透明導電膜の低ダメージ低温高速スパッタ成膜技術

１．高エネルギー粒子の有機膜表面への入射によるダメージ生成
　1.1 電子照射によるPL強度の変化
　1.2 Arイオン照射によるPL強度の変化
２．ITO透明電極のスパッタ成膜による有機膜のPL強度の減少
３．有機EL素子での検証
　3.1 有機EL素子の発光および電流電圧特性
　3.2 Al陰極からの電子注入特性
　3.3 ITO陽極からの正孔注入特性

第6節　Cat-CVD法による有機EL用バリア膜の形成技術

１．水蒸気バリア膜の必要性能
２．Cat-CVD法
３．Cat-CVD法で低温形成したSiNx膜の特性
４．有機ELディスプレイ用プラスチック基板へのバリア膜形成
５．Cat-CVDにおけるバリア膜の積層技術
６．有機EL素子への実装試験
７．今後の課題

第7節　スパッタ法による酸化物半導体薄膜の成膜技術とOLEDへの応用

１．有機ELディスプレイのバックプレーン技術について
　1.1 技術動向
　1.2 低温ポリシリコン
　1.3 酸化物半導体

２．スパッタ法による酸化物半導体薄膜の成膜技術
　2.1 スパッタカソード
　2.2 IGZOターゲット
　2.3 大型スパッタ装置によるIGZO TFT特性と有機ELディスプレイへの応用
　2.4 IGZO TFT周辺技術

第8節　スパッタリング法によるガラスへの反射防止膜の作製技術

１．透明反射防止膜
　1.1 λ/4 単層膜
　1.2 多層膜
２．スパッタリング法による絶縁膜の成膜
　2.1 マグネトロンスパッタリングと反応性スパッタリング
　2.2 絶縁性薄膜の反応性スパッタリング
　2.3 高速成膜技術

第9節　デジタルカメラ用レンズへの光学薄膜の成膜技術
１．カメラレンズ用反射防止膜の歴史
２．デジタルカメラ用レンズの反射防止膜
　2.1 撮像素子とフィルムによる反射防止膜の違い
　2.2 高屈折率ガラスへの対応
　2.3 反射防止膜の種類
　2.4 反射防止以外に必要な特性
３．デジタルカメラ用レンズ反射防止膜の製造
　3.1 デジタルカメラ用レンズに用いられるレンズ基板
　3.2 デジタルカメラ用レンズの成膜方法

第10節　産業用カメラレンズへの光学コーティング技術

１．色分解光学系の問題点
　1.1 入射角度が分光特性に与える影響
　1.2 波長シフト量の変化
２．色分解光学素子の分光特性改善方法
　2.1 光学コーティング面への入射角度
　2.2 補正フィルターの設置
　2.3 改善された光学系

第11節　ナノ積層PVD法による光触媒親水性薄膜の成膜技術と光学部品の防曇処理

１．光触媒親水性と防曇処理技術
２．PVD法による酸化チタン光触媒コーテング
３．酸化チタン薄膜と酸化ケイ素薄膜とのナノ積層構造による超親水性の発現と防曇処理
４．光学薄膜への応用

第12節　ガラス光学部品への紫外線カット付与技術

１．紫外線カットフィルタの種類
　1.1 干渉型フィルタ
　1.2 吸収型フィルタ
　1.3 溶融法によるハロゲン化銅(I)微粒子分散ガラスの作製
２．新規な方法によるハロゲン化銅(�T)微粒子分散ガラスの作製
　2.1 ステイン法の概要
　2.2 ステイン法によるハロゲン化銅(�T)微粒子分散ガラスの作製
３．紫外光シャープカットレンズアレイの製造技術

第13節　ＬＥＤ用光学薄膜の最適設計と高品質成膜技術

１．RPD装置の構成・特徴
２．RPD法によるITO膜について
３．LED実装に向けたITO膜の最適化

第14節　Si太陽電池におけるSiOx反射防止膜の形成

１．形成膜の組成および光学的特性
　1.1 形成膜の組成
　1.2 SiO1.7膜の光学的特性
２．Si上SiO1.7膜の界面特性

第15節　太陽電池の光学解析と反射防止膜の最適設計

１．光学解析法
２．反射防止多層膜のロバスト設計法
　2.1 ロバスト最適化アルゴリズム
　2.2 P3HT/PCBM型有機太陽電池への適用例

第16節　太陽光集光薄膜の設計・作製技術と太陽光パネルへの応用

１．集光シート技術
　1.1 集光シートの構造
　1.2 集光シートの原理
　1.3 集光シートの光配向特性(全方位集光機能)
　1.4 集光シートとモスアイシートの比較

第17節　シリコン系薄膜太陽電池用ガラス基板への透明導電膜の成膜技術

１．透明導電膜付きガラス基板の要求性能
２．透明導電膜の種類
３．フッ素添加酸化スズ薄膜とその成膜法
４．酸化スズテクスチャ構造と光散乱性能
５．高ヘ-ズ率ダブルテクスチャTCO

第18節　ZnO系透明導電膜の開発とCIGS 太陽電池への応用

１．CIGS太陽電池について
２．CIGS太陽電池用透明導電膜に必要な条件
３．CIGS太陽電池用透明導電膜の開発
４．ZnO系透明導電膜の電気特性と結晶配向性の相関

第19節　色素増感太陽電池における透明導電膜の作製と低抵抗化

１．色素増感太陽電池の構造と発電原理と透明導電基板
２．色素増感太陽電池の高効率化と導電基板のシート抵抗
３．酸化物のバッファ層形成によるITOフィルムの低抵抗化の試み

第20節　高出力レーザー用光学薄膜の作製技術とレーザー損傷耐力

１．高出力レーザー用光学薄膜に要求される性能
２．レーザー損傷機構
３．光学薄膜の設計及び作製技術
　3.1 設計
　　3.1.1 蒸着材料の選定
　　3.1.2 膜構成・設計
　3.2 基板
　　3.2.1 光学薄膜と基板の相互作用
　　3.2.2 基板の表面粗さと不純物
　3.3 蒸着
　　3.3.1 吸収による影響
　　3.3.2 基板温度と蒸着速度による影響

第21節　レーザ用光学素子への成膜技術と高耐力化

１．基板
　1.1 素材
　1.2 光学研磨
　1.3 表面粗さ
　1.4 表面精度
２．成膜技術
　2.1 洗浄
　2.2 光学素子の高耐力化
　2.3 低損失薄膜
３．耐力評価
　3.1 レーザ耐力評価
　3.2 長期レーザ耐力保証
４．光学素子の使用上の注意点

第22節　赤外線カット膜の作製技術と自動車用ガラスへの応用

１．近赤外線カット膜の種類
　1.1 近赤外線吸収膜
　1.2 赤外線反射膜
　1.3 赤外線反射膜の形成方法の一例
２．自動車用窓ガラスの基礎
　2.1 自動車用窓ガラスの種類と製造方法
　2.2 自動車用窓ガラスに求められる基本的特性
３．自動車用の遮熱窓ガラス
　3.1 遮熱性とその指標
　3.2 ガラス自体による遮熱
　3.3 膜形成による遮熱(強化ガラス)
　3.4 膜形成による遮熱(合わせガラス)
　3.5 遮熱膜を補完する技術(合わせガラス)
４．遮熱ガラスの効果

第23節　調光ミラー薄膜の作製技術と光学特性の最適化

１．調光ミラー薄膜
２．調光ミラー薄膜の作製とスイッチング特性の評価
３．マグネシウム・ニッケル系調光ミラー薄膜の光学スペクトル
４．エレクトロクロミック調光ミラーデバイス
５．調光ミラー窓ガラス

第24節　真空紫外パルスレーザーによるシリコーンの表面改質とポリカーボネート上への透明保護膜の形成

１．シリコーンと光化学表面改質
２．ポリカーボネート上へのSiO2透明保護膜の形成

第25節　吸着誘起型エレクトロクロミック現象

１．従来のエレクトロクロミック材料
２．新しいエレクトロクロミック材料−吸着誘起型
３．微絨毛構造化によるAiEC特性の向上
４．微絨毛構造化InN膜のAiEC劣化特性

第26節　自己クローニング技術によるフォトニック結晶の作製技術とその応用

１．フォトニック結晶
２．自己クローニング法とその特徴
　2.1 パターンの周期
　2.2 パターンの種類
　2.3 材料
　2.4 基板
３．自己クローニング法の応用例
　3.1 偏光子
　3.2 波長板
　3.3 面内集積化

第27節　光学多層膜を用いた波長可変光フィルタの設計と応用

１．波長可変光フィルタ
　1.1 フィルタの基本構造
　1.2 フィルタを構成する材料
　1.3 フィルタ多層膜の作製
　1.4 波長可変幅
　1.5 スペクトル形状
　1.6 消費電力と応答速度
２．波長可変光フィルタの応用

第28節　光通信用フィルタにおける誘電体多層膜の最適設計と膜厚制御技術

１．利得等化フィルタ
　1.1 任意形状の透過率をもつ多層膜設計
　1.2 位相予測膜厚制御
　　1.2.1 間接型と直視型の光学膜厚モニタ
　　1.2.2 位相予測光学膜厚制御
　1.3 利得透過フィルタの成膜例
２．狭帯域透過フィルタ
　2.1 共振構造をもつ多層膜設計
　2.2 透過率ピーク予測膜厚制御
　2.3 狭帯域透過フィルタの成膜例

第29節　光通信用ポリマーマイクロレンズにおける反射防止膜の密着性向上技術

１．光通信用マイクロレンズ
　1.1 概要
　1.2 マイクロレンズの製法
２．ポリマーマイクロレンズの課題
３．技術内容
　3.1 無機ナノ粒子の粒子径
　3.2 粒子の表面処理　
　3.3 ナノコンポジット樹脂の光学特性
　3.4 マイクロレンズとしての耐湿性改善結果

第30節　光導波路用光学薄膜に要求される特性・成膜技術と特性制御技術

１．光学薄膜に要求される特性とそれらの取り組み方法、評価方法
　1.1 光導波路用光学薄膜
　1.2 光学薄膜に要求される特性
　　1.2.1 屈折率
　　1.2.2 透過率
　　1.2.3 膜質
　　1.2.4 応力
　　1.2.5 レーザー耐性
２．検討した光学薄膜の成膜技術と特性制御技術
　2.1 光学薄膜の成膜方法の開発目標
　2.2 検討した光学薄膜の成膜方法
　2.3 電子ビーム(EB)蒸着法により成膜した光学薄膜
　2.4 スパッタリング法により成膜した光学薄膜
　2.5 プラズマＣＶＤ法により成膜した光学薄膜
　　2.5.1 SiH4系ソースを用いたプラズマCVD法により成膜した光学薄膜
　　2.5.2 アルコレート系液体ソースを用いたプラズマCVD法により成膜した光学薄膜
　2.6 その他の成膜法により成膜した光学薄膜
　2.7 低損失・高比屈折率差用光導波路用に適した光学薄膜
３．成膜した光学薄膜のパターニング加工技術
４．光導波路と光ファイバとの損失の比較と損失の違いの要因
５．導波路型受動部品への応用例

第31節　プラズモン共鳴の高機能フィルタへの応用

１．白色LED照明のスペクトル変調による可視光通信
２．MIM構造における光と薄膜との相互作用
　2.1 有限要素法によるMIM構造の電磁場シミュレーション
　2.2 M1層およびI層の厚みに対する依存性
　2.3 M2層の厚みおよびI層材質に対する依存性
３．真空蒸着法によるMIM構造の試作と吸収dip特性の実際
　3.1 成膜装置と評価手法
　3.2 膜材質，膜厚測定の重要性
　3.3 M層の成膜レート向上による分光反射率特性の変化
　3.4 I層の厚みに依存した分光反射率特性
　3.5 蒸着プロセスの自動化によるMIM構造の再現性
　3.6 膜厚モニタリングの必要性
４．アクティブ波長フィルタリングにむけて
　4.1 電気光学材料の利用
　4.2 SPR現象のリアルタイムモニタリング
　4.3 MIM製造におけるリアルタイムモニタリング

第32節　テラヘルツ帯光学薄膜

１．赤外線〜紫外線領域の光学薄膜技術概観
２．テラヘルツ波領域の光学薄膜技術概観
　2.1 貼り付け機械的研磨法
　2.2 有機系材料による光学薄膜技術
　2.3 低温プラズマＣＶＤ法

第33節　医療・バイオ分野における光学多層膜干渉フィルターの利用と成膜技術

１．光学多層膜干渉フィルターのバイオ・医療分野における利用
　1.1 蛍光の検出
　1.2 顕微鏡蛍光観察
　1.3 一分子蛍光イメージング
　1.4 がん診断への利用
２．製造技術発展の必要性
　2.1 高い精度への要請
　2.2 製造設備に求められる要件
　2.3 低価格化への対応
　2.4 バイオ・医療機器の競争力向上に向けて